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Inpria与SK hynix联合开发金属氧化物抗蚀剂，降低新一代DRAM的制版复杂性
JSR株式会社(JSR Corporation)今天宣布加速与SK hynix Inc.的合作开发进程，以便将JSR旗下公司Inpria的极紫外光刻(EUV)金属氧化物抗蚀剂(MOR)应用于制造先进的DRAM芯片。Inpria拥有广泛专利的EUV金属氧化物光刻胶平台使客户能够高效地对先进节点设备架构进行制版。
JSR株式会社(JSR Corporation)今天宣布加速与SK hynix Inc.的合作开发进程，以便将JSR旗下公司Inpria的极紫外光刻(EUV)金属氧化物抗蚀剂(MOR)应用于制造先进的DRAM芯片。Inpria拥有广泛专利的EUV金属氧化物光刻胶平台使客户能够高效地对先进节点设备架构进行制版。
