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美日大厂NF3供给迟缓南韩厂商扩能趁胜追击

三氟化氮(NF3)是一种温室气体，但也是半导体及TFTLCD生产制程中重要的工业用气体，由于其具备清洁化学气相沉积(CVD)制程以及干蚀刻(DryEtching)制程硅化物的特性，而成为目前半导体及面板产业关键的特殊气体。DIGITI

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2011-05-04

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