LED半导体照明网讯 Yole Développement预测, 经过18-24个月的消化期,LED前端设备市场开始缓慢复苏,并将在2014-2016年间经历另一轮投资,通用照明应用是主要需求动力。但第二轮投资价值有限,因为设备
Yole Développement预测, 经过18-24个月的消化期,LED前端设备市场开始缓慢复苏,并将在2014-2016年间经历另一轮投资,通用照明应用是主要需求动力。但第二轮投资价值有限,因为设备产能和良率有所改善,
IGZO技术是近来半导体显示市场最热门的技术,不过由于其在成膜过程中存在对氢气敏感、膜质均匀性要求高等特点,大规模生产过程中存在成品率较低的问题。近日,半导体设备大厂应用材料推出适用于IGZO金属氧化物薄膜生
10月31日,应用材料显示事业部(AKT)在日本横滨的2012年国际平板显示器展 (FPDI 2012)现场,通过视频会议系统向北京媒体宣布,推出分别采用低温多晶硅(LTPS)和金属氧化物材料的PX PECVD(等离子体增强型化学气相沉
应用材料公司宣布推出全新的PVD*和PECVD*技术,用于制造下一世代的超高分辨率(UHD)电视以及移动设备的高像素密度屏幕。实现这一重大变革的关键在于这两项技术使用了全新的金属氧化物和低温多晶硅材料,从而生产出更快
应用材料显示事业部(AKT)在日本横滨的2012年国际平板显示器展 (FPDI 2012)现场,通过视频会议系统向北京媒体宣布,推出分别采用低温多晶硅(LTPS)和金属氧化物材料的PX PECVD(等离子体增强型化学气相沉积)和PiV
应用材料公司宣布推出全新等离子体增强化学气相沉积(PECVD)薄膜技术,用于制造适用于下一代平板电脑和电视的更高性能高分辨率显示。这些源自应用材料公司业界领先的AKT-PECVD系统的先进绝缘薄膜,使得基于金属氧化
自2011以来,行业持续低迷,很多光伏企业将主要精力都放在了提升产品效率,以便使自身更具竞争力。在提升效率过程中,之于每个工艺的控制就显得格外重要。例如,对于晶体硅电池的核心工艺的PECVD,为了既获得良好的钝
众所周知,以等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法生长的非晶硅和微晶硅材料,一直是薄膜太阳能电池制备中很有前景的材料。 其中非晶硅电池具有极高的光吸收系数,且容易大规模生产,是目前较为普遍的硅基薄膜电池
近日,诺发公司宣布其已向旭瑞光电公司提供了一台VECTOR(R)型等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备。旭瑞光电是一家位于佛山的合资公司,其股东之一是世界领先的高亮度LED生产企业——美国旭明公司(Semileds Corp
应用材料公司推出全新的Applied AKT-20K PX PECVD 系统,用于制造最先进的智能手机和平板电脑中所采用的高性能有源矩阵OLED和TFT-LCD显示屏。通过采用LTPS关键技术,该系统可将高度一致的薄膜沉积至1.95平方米的玻璃
半导体设备龙头应用材料(Applied Material)11日举行台南制造中心扩建竣工典礼,将投入电浆强化化学气相沉积(PECVD)与物理气相沉积(PVD)等面板及薄膜太阳能电池最关键的制造设备生产,成为台湾面板厂西进中国大陆与跨
诺发系统日前发表VECTOR PECVD、INOVA PVD和GxT photoresist strip systems的新机型,这些新机型可以和诺发系统的先进金属联机技术相辅相成,并且展开晶圆级封装技术(WLP)的需求及市场。这些机台都整合了一些一般传统