1.2亿美元一台的光刻机被中国员工窃密？ASML总裁都忍不住回应

消息，近日有外媒报道称中国员工窃取荷兰公司阿斯麦（ASML Holding N.V）商业机密并泄露给中国政府，ASML就是此前中芯国际购买1.2亿美元EUV光刻机的卖方，几乎是中芯国际2017年的全部净利润，“ASML中国员工窃密”一事也得到了半导体行业的广泛关注。

图片来自ASML官网

了解到，消息出自荷兰一家当地媒体（Financieele Dagblad），该媒体报道称，几名中国籍雇员从ASML的美国子公司窃取商业机密，导致ASML亏损数亿美元。

相关报道指出，这些中国籍雇员是ASML公司研发部员工，有访问ASML美国圣何塞分公司内部网络的许可权，他们利用职务之便窃取了设备的源代码、软件、公司定价策略和供内部使用的设备手册，并将信息传递给ASML的竞争对手XTAL公司。

那么，XTAL是否真的窃取ASML商业机密了呢？起码从法院判决来看，确实是这样。2018年11月，ASML公司以“盗用商业机密”为由将XTAL告上法庭，法院正式裁决，XTAL必须向ASML支付2.33亿美元的赔偿金，然而一个月后，XTAL公司即申请破产。

XTAL于2014年在美国硅谷成立，虽然成立时间比ASML晚了十几年，但是由于ASML一家独大的市场地位，客户还是希望有几家公司同时竞争，比如三星就是XTAL的客户，不过显然XTAL没能突破ASML的技术加商业壁垒。

在4月11日外交部发言人陆慷主持的例行记者会上，有记者问到，“荷兰某财经媒体报道称，荷兰半导体业ASML公司的中方高管窃取该公司商业机密，造成公司巨额损失，并称这些技术被泄露给了中国政府。中方是否得知此事？对此有何评论？”

陆慷答：我们注意到有关报道，但不了解你提到的具体情况。实际上，中国和荷兰在科技领域一直保持着良好的合作。我们多次重申，中国政府高度重视知识产权保护。我们一向要求海外的中国公民和企业遵守驻在国法律。

至于中国自身，中国的科技发展一不靠偷，二不靠抢，是中国人民用自己的智慧和汗水，辛勤奋斗出来的。

涉及到芯片和大国关系等敏感话题，ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink也是第一时间做出回应，ASML不同意它曾成为“中国间谍”的受害者。

“我们在某种程度上是国家阴谋的受害者的言论是错误的。事实是，我们被硅谷的一小部分员工‘抢劫’，他们违反法律以‘损公肥私’。所有这一切都发生在几年前。我们自己发现了这一点，并于2016年立即在公共法庭寻求法律诉讼。在我们于2018年11月官司胜利后，在几份报道表明了这一观点，“Peter Wennink说。

ASML官方表示，这些拥有各种国籍的员工窃取的掩模优化软件，是ASML产品和服务组合中的一小部分，目的是创建一个竞争产品并将其出售给韩国现有的ASML客户（应该是三星），XTAL的资金有一部分来自韩国。目前尚不清楚2.33亿美元的赔偿可以从现在破产的XTAL公司收回到什么程度。

“我们反感任何有关此事件对ASML在中国开展业务有任何影响的建议。有些人恰好是中国公民，但其他国家的人也参与其中。我们确实谨慎地保护我们的专有知识，并且对信息安全非常敏感。我们相信，可以为包括中国客户在内的所有客户提供服务，并帮助他们建立业务。最近欧盟与中国之间的建设性谈判和协议令中国加强尊重和保护非中国公司的知识产权，包括有效的执法行动，当我们看到这些在中国法律和审判中得到实现时，我们对此感到鼓舞”，温宁说。

ASML官网资料显示，ASML在16个国家的60多个城市设有办事处，总部位于荷兰Veldhoven，员工超过23000名。

“生产决定消费”，ASML在半导体行业的地位就是这么不可取代，即便是英特尔、三星和台积电也只能等ASML供货。甚至在ASML的研发进展缓慢时，三家大厂注资数十亿美元帮助ASML开发EUV光刻工艺及18英寸晶圆，可见光刻机的门槛之高。

EUV光刻机透视图（摘自ASML官网）

顾名思义，光刻机就是用光来刻电路，光刻机（Mask Aligner) 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺），生产集成电路简要可以分为三步：

利用模版去除晶圆表面的保护膜。

将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

这个过程类似照片冲印，光线经过镜头把景物影象聚焦在胶片上，胶片上的感光剂随光发生变化，胶片上受光后变化了的感光剂经显影液显影和定影形成和景物相反或色彩互补的影象。光刻集成电路的载体成了晶圆，成像变成了电路。

芯片被誉为工业石油，光刻机则被誉为半导体行业的明珠，目前ASML已经占据行业绝对统治地位，一方面是高端工艺无人能及，另一方面是市场占有率非常高，尾随其后的尼康和佳能技术较之相差一两代。2017年全球光刻机总出货294台，ASML出货198台，占有68%的市场份额。更高端的EUV光刻机方面，ASML占有率100%。

物以稀为贵，2017年ASML单台EUV机平均售价超过1亿欧元，2018年一季度的售价更是接近1.2亿欧元，但就这样还是有价无市，产能有限

EUV光刻机中的EUV指的是是波长13.5nm的极紫外光，普通的DUV光刻机使用的是193nm的深紫外光，EUV光刻机可以大幅提升半导体工艺水平，实现7nm及以下工艺，更重要的，这是半导体摩尔定律能延续下去的基础，当下摩尔定律并不是芯片设计的问题，纯粹是材料工艺度不达标，ASML能够提供更精密的设备，在产业的几乎最上游。

按照英特尔的规划，EUV光刻机本来早在2005年就应该投入使用，但是这显然低估了材料学的难度，EUV波长仅有13纳米，光线能量和破坏性极高，制程的所有零件、材料，样样挑战工艺极限，机械动作误差要以皮秒（兆分之一秒）计。

对于志在发展国内半导体行业的我国来说，光刻机也是必须要突破的一环，2018年底，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

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