Mentor Tanner模拟/混合信号工具获得TSMC模拟IC设计专有工艺认证

Mentor,a Siemens business日前宣布，其Tanner™模拟/混合信号(AMS)设计工具—Tanner S-Edit原理图输入工具和Tanner L-Edit版图编辑器—现已获得认证，可用于TSMC的可互操作的PDK(iPDK)，适用于广泛的TSMC专有工艺技术，以实现高产量的模拟IC设计。

Mentor的Tanner AMS设计工具经过优化，可创建全定制模拟或“Analog on Top”混合信号集成电路(IC)，适用于22nm及以上工艺。许多领先的IC供应商使用Mentor的Tanner工具为广泛的市场(包括汽车、可穿戴设备和工业物联网(IoT)领域)设计高度复杂的AMS设备。

“在全球增长速度最快的市场当中，很多市场对专用AMS芯片的需求越来越大，这些芯片能够无缝衔接模拟和数字世界。Mentor的Tanner工具经过专门设计，旨在帮助IC设计人员满足这一日益增长的需求，同时为创建高度创新的AMS设计提供一个理想的平台。”Mentor,a Siemens business的集成电路设计系统部总经理Greg Lebsack表示，“适用于支持模拟IC设计的TSMC专有工艺的Tanner AMS工具已获得认证，这对我们的客户来说是个好消息，它有助于加快上市时间和降低风险。对我们的共同客户来说，Mentor Tanner AMS解决方案与TSMC专有工艺结合用于模拟IC设计是真正的强强联合。”

TSMC 用于专有工艺技术的iPDK可帮助芯片制造商满足前沿AMS IC设计的特定要求。Mentor的AMS工具现已获得认证，可用于许多晶圆代工厂的 iPDK，包括22nm超低功耗、28nm高性能计算、40nm混合信号技术以及适用于当今最先进的模拟IC的其他专有工艺技术。

“我们与Mentor之间的长期合作可确保能在特殊节点为我们双方的客户提供成功设计和制造芯片所需的EDA解决方案和服务以及相关支持，”TSMC设计基础架构管理事业部高级总监Suk Lee表示，“这项合作成果结合了TSMC的专有工艺技术与Mentor的高级设计工具，帮助我们的客户在汽车、智能可穿戴设备和工业物联网等广泛的市场领域中获得创新成功。”