三星或于下年推出7nm和11nm半导体工艺

三星宣布，新加入了11nm LPP工艺，性能比此前的14nm提升了15%，单位面积的功耗降低了10%。三星将于9月15日在东京举办的半导体会议上公布，未来的技术还会有所提升。

三星表示，10nm用于旗舰手机，11nm用于中高端，来提供给不同需求，预计2018年上半年在市场投放。与此同时，三星也成为了市场上最先确认7nm的企业，其7nm LPP定于2018下半年量产，采用EUV极紫外光刻技术。