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[导读]无锡SK海力士二工厂将于4月18日迎来竣工投产。报道称,SK海力士二工厂项目2017年6月正式开工,将于本18日正式举行竣工仪式,总投资86亿美元。竣工后主要用于生产先进的10nm级DRAM技术,预估每月可生产18万片12英寸Wafer。

无锡SK海力士二工厂将于4月18日迎来竣工投产。报道称,SK海力士二工厂项目2017年6月正式开工,将于本18日正式举行竣工仪式,总投资86亿美元。竣工后主要用于生产先进的10nm级DRAM技术,预估ÿ月可生产18万片12英寸Wafer。

据悉,SK海力士与无锡已有15年的合作,一直在无锡重点推进前道工序和后道工序相关事业,接下来将与江苏省包括无锡市及高新区全面战略合作。

SK海力士早在2016年底就计划加码投资无锡DRAM晶圆厂,从2017年7月到2019年4月总投资9500亿韩元,以保持生产竞争力。2018年,SK海力士开始推进将韩国总部的8英寸系统芯片项目迁到无锡,随后还决定把中国销售总部迁至无锡,接下来SK海力士还将在无锡建设学校项目和医院项目。

据悉,SK海力士在无锡的工厂分为一期和二期,SK海力士二期工厂项目投资86亿美元,2017年6月正式开工,2018年底完成清洁室的安装,预计本月竣工后将全面进入量产阶段。

SK海力士主要在韩国利川和中国无锡工厂生产DRAM,除了扩建的无锡二期工厂,SK海力士还正在新建M16工厂,这是在利川新建M14工厂之后的第三座Fab工厂,也可能将用于生产DRAM,或者跟M14一样是NAND Flash和DRAM的混合工厂。

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