离子注入机是高压小型加速器中的一种,应用数量最多。它是由离子源得到所需要的离子,经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流,用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入,还用于金属材料表面改性和制膜等。
M EVVA源是金属蒸汽真空弧离子源的缩称。这是上世纪80年代中期由美国加州大学伯克利分校的布朗博士由于核物理研究的需要发明研制成功的。这种新型的强流金属离子源问世后很快就被应用于非半导体材料离子注入表面改性,并引起了强流金属离子注入的一场革命,这种独特的离子注入机被称为新一代金属离子注入机。
由于众所周知的原因,近期国外尤其是美国对中国的科技“卡脖子”打击,这也掀起了我国自主研发突破国外封锁的一波热潮,近期也是捷报频频。在芯片方面,离子注入机是芯片制造中的关键装备,中国电子科技集团有限公司近日公布,该集团旗下电科装备已成功实现离子注入机全谱系产品国产化,可为全球芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案。
6月30日消息 新华社报道,中国电子科技集团宣布,由该集团旗下电科装备自主研制的高能离子注入机成功实现百万电子伏特高能离子加速,性能达到国际先进水平。获悉,离子注入机是芯片制造中的关键装备。在芯片制造
近期由国内半导体行业资讯,万业企业全资子公司上海凯世通半导体股份有限公司(以下简称“凯世通”)的低能大束流集成电路离子注入机已搬进杭州湾洁净室,目前正在