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自制NE555等离子体扬声器详解（一）
准备材料 ：电烙铁 *1吸锡泵*1松香*1焊锡丝*1洞洞板*1电子元件：四分之一瓦电阻：10K 18K 470ohm 22ohm *13296精密可调电位器*1三端稳压器 7812*1滤波铝电解电容*11nF独石电容*163V 0.22微法涤纶电容*1IC ：NE555 *1
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超日太阳能电池片壮大新能源产业
摘要： 近年来，开发区大力发展以旭阳雷迪为龙头的新能源产业，聚集了迅腾硅业、旭阳光电、上海超日、中辉特、润扬切割液、华融坩埚等20余个产业链项目，总投资超过250亿元。... 近年来，开发区
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仪器如何命名？“计”和“仪”有何区别？
仪器是如何命名的呢？“计”和“仪”有什么区别呢？一般来说，仪器的命名次序应该严格与样品分析时被分析物经历的次序一致，尤其是样品处理的联用技术较多时这一点显得更为重要，如ID-FI-IC-ICP-TOF-MS，表示同位素稀
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ALD中射频阻抗匹配器的设计与研究
摘要：阐述原子层沉积系统(ALD)中射频阻抗匹配器的设计方案。利用ADS软件对阻抗匹配网络进行仿真，通过分析ALD真空腔室内等离子体产生前后的负载阻抗变化，结合仿真结果，提出等离子体产生过程中阻抗匹配网络的控制方
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无极灯的概念及其与LED的对比
无极灯的概念及其与LED的对比现在无极灯的技术也比较成熟，个人感觉它与LED的优势差距不大。以下是从网上搜集的一些资料，请大家看看，然后说说LED与无极灯谁更有优势成为新一代照明灯具。无极灯：Promise Light高频
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无极灯的概念及其与LED的对比
无极灯的概念及其与LED的对比现在无极灯的技术也比较成熟，个人感觉它与LED的优势差距不大。以下是从网上搜集的一些资料，请大家看看，然后说说LED与无极灯谁更有优势成为新一代照明灯具。无极灯：Promise Light高频
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集成电路设备
(1)集成电路前工艺设备根据其工艺性质，主要有以下几种。外延炉：用于外延材料生长。氧化扩散设备：用于制取氧化层和实现掺杂。制膜设备：主要有电子束蒸发台、磁控溅射台、等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)设备。离
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星弧等离子体技术在LED制作工艺中的应用
前言LED是可直接将电能转化为可见光的发光器件，它有着体积小、耗电量低、使用寿命长、发光效率高、高亮度低热量、环保、坚固耐用及可控性强等诸多优点，发展突飞猛进，现已能批量生产整个可见光谱段各种颜色的高亮度
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彗星“自杀”撞太阳 美探测器拍到震撼场景
人们一直都在猜测恐龙时代的彗星撞地球是什么样子的，但是近日，美国探测器却真实的拍到了彗星撞太阳的场景。上周正当太阳出现爆发现象时，一颗彗星一头冲进了太阳，美国太阳和太阳风层探测器(SOHO) 捕捉到这颗自杀的
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星弧等离子体技术在LED制作工艺中的应用
前言LED是可直接将电能转化为可见光的发光器件，它有着体积小、耗电量低、使用寿命长、发光效率高、高亮度低热量、环保、坚固耐用及可控性强等诸多优点，发展突飞猛进，现已能批量生产整个可见光谱段各种颜色的高亮度
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等离子体表面处理技术在医疗器械领域的应用
对气体施加电压使之产生辉光放电的技术，或者称做“等离子体”技术，在医疗器械领域已经成为了一种解决表面预处理问题的有力工具。等离子体不仅可用于表面的极端清洁和消毒，它还可以改善生物材料对体外诊
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欧洲航天局空间探测器揭示空间等离子体流异常高温之迷
据国外媒体报道，欧洲航天局四个空间探测器组成飞行编队通过大约距离地球9万6千公里（地球到月球距离的四分之一）的磁场中心，监测到以超过每小时800公里速度向地球冲击而来的等离子体喷流，该探测器飞行编队详细检测
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东方集成在上海安装了等离子体沉积系统
2012年3月，东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，用于在基片上沉积 SiOx, SiOxNy或 SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的
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等离子体质谱仪揭开光绪帝死因，微量元素中的科学
清末光绪帝之死成了谜团，现在有众多解释和推测，但最值得人们采信的则是光绪帝死于砒霜中毒。而这个推断是怎么得出的呢？又是谁这么厉害发现了光绪帝的死因呢？但真正的功臣其实是一台仪器——电感耦合等离子体质谱
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中微等离子体刻蚀设备Primo AD-RIE(TM)运抵中芯国际
上海和旧金山2012年3月20日电 /美通社亚洲/ -- 中微半导体设备有限公司(以下简称“中微”)于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE™ 正式装配国内技术最先进的集成
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中微等离子体刻蚀设备运抵中芯国际
中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE? 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际，用于32纳米至28纳米及更先进的芯片
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中微等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE(TM) 运抵中芯国际
上海和旧金山2012年3月20日电 /美通社亚洲/ -- 中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE? 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企
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中微等离子体刻蚀设备运抵中芯国际
中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE? 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际，用于32纳米至28纳米及更先进的芯片
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热烈祝贺东方集成功在上海某研究所安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统
2012年3月，东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，用于在基片上沉积 SiOx, SiOxNy或 SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的
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彩色表面等离子体共振成像研究
自Ash和Knoll等创立表面等离子体共振成像( Surface PlasmON Resonance Imaging, SPR I)技术以来, 使得生物分子点阵的无标记并行检测成为可能. 迄今为止, SPR I主要采用单波长激发光源, 检测到的是单色或黑白图像. 虽
