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典型工艺介绍
光刻技术类似于照片的印相技术，所不同的是，相纸上有感光材料，而硅片上的感光材料——光刻胶是通过旋涂技术在工艺中后加工的。光刻掩模相当于照相底片，一定的波长的光线通过这个“底片”，在
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EUV光刻下垫层材料研究进展
EUV光刻是hp22以下器件制造最有前途的候选技术之一。但它有些难点需要克服，特别是要开发高功率EUV光源、制造多层掩膜与检测以及开发均衡性良好的光刻胶，因为分辨率-线宽粗糙度-灵敏度(RLS)的权衡最重要。EUV用光刻
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2011韩国半导体光刻胶需求预计达2.58亿美元 国内外供应商竞争日趋激烈
在半导体制程中，曝光制程非常重要，因此作为其核心材料的光刻胶(Photoresist)占较大的生产成本，在技术与产业方面的重要性也非常高。根据DisplayBank统计，2011年用于韩国国内半导体产业的光刻胶量约为25万~30万加仑
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2011韩国半导体光刻胶需求预计达2.58亿美元
在半导体制程中，曝光制程非常重要，因此作为其核心材料的光刻胶(Photoresist)占较大的生产成本，在技术与产业方面的重要性也非常高。根据DisplayBank统计，2011年用于韩国国内半导体产业的光刻胶量约为25万~30万加仑
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极大规模集成电路关键材料研究通过验收
日前，为增强北京地区集成电路材料研发优势而启动的，对接国家中长期科技发展规划中的“极大规模集成电路关键材料研究”课题进行了结题验收。 依托该课题，承担单位攻克了248nm深紫外光刻胶、聚酰亚胺光敏树脂、精密
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MIT实现9纳米工艺电子束光刻技术
麻省理工学院 (MIT)的研究人员表示，已经开发出一种技术，可望提升在芯片上写入图案的高速电子束光刻解析度，甚至可达9nm，远小于原先所预期的尺寸。MIT表示，电子束光刻工具的最小特征尺寸已证实可以解决25nm的制程
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硅材料成芯片过程讲解
昨天，上海有了第一条高规格、高产量的12英寸芯片线。送入这条全自动生产线的 “原料”，是一叠叠有如老式唱片的硅片。而最终，每张“唱片”都将变为成千上万枚集成电路芯片，装入手机、电脑、数码相机，甚至第二代身
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12英寸“唱片”(组图)
本报记者 徐瑞哲 昨天，上海有了第一条高规格、高产量的12英寸芯片线。送入这条全自动生产线的 “原料”，是一叠叠有如老式唱片的硅片。而最终，每张“唱片”都将变为成千上万枚集成电路芯片，装入手机、电脑、
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东芝展望EUV曝光技术量产在即或需要与双图案化技术并用
东芝在荷兰阿斯麦（ASML）公司于2010年11月18日在东京举行的“ASML/BrionComputationalLithographySeminar2010”会议上，展望了引进EUV（超紫外线）曝光技术进行量产的前景。东芝统管光刻技术开发的东木达彦表示“即
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东芝展望EUV曝光技术量产在即
东芝在荷兰阿斯麦(ASML)公司于2010年11月18日在东京举行的“ASML/Brion Computational Lithography Seminar 2010”会议上，展望了引进EUV(超紫外线)曝光技术进行量产的前景。东芝统管光刻技术开发的东木达
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Mattson Technology获得光刻胶剥离系统新订单
先进半导体工艺设备供应商Mattson Technology日前宣布从一家亚洲新客户处获得了Suprema光刻胶剥离系统订单。该系统可用于先进逻辑器件生产，包括前端工艺及后端工艺。预计这些系统将于第四季度出货。Mattson Technol
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沙子变"黄金"! 揭秘CPU制造全过程
CPU是计算机的心脏，它是决定计算机性能的最重要的部件。同样CPU也是现代社会飞速运转的动力源泉，在任何电子设备上都可以找到微芯片的身影。不过能完成复杂功能的CPU确是以沙子为原料做成的，不得不惊叹于人类的智慧
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预测193纳米光刻胶市场增长
预测在未来五年内全球193纳米光刻胶市场将以年均增长率达27%增长，到2013年时达12亿美元。该数据来自一家电子材料顾问公司的报告。 在先进图形的形成中，对于193纳米光刻胶市场无论干法或者浸液式都会有较大增长
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预计193nm光刻胶市场将迅猛增长
根据咨询公司Linx Consulting的报告，193nm光刻胶市场预计将在未来五年内获得27%的符合年均增长率，到2013年将达近12亿美元。 193nm光刻胶市场，包括干法和沉浸式，是先进光刻及制版市场上最具成长潜力的市场。200
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材料成本上涨 JSR提升光刻胶价格
为了应对原材料价格上涨，日本JSR Corp.将在全球范围内提升g-和i-line PFR系列光刻胶价格，提价范围为6％至10％，于12月1日起正式生效。 JSR表示公司已采取了积极的措施来改善生产效率，以弥补原材料、劳动力和物流
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华飞微电子：国产高档光刻胶的先行者
光刻胶是集成电路中实现芯片图形转移的关键基础化学材料，在光刻胶的高端领域，技术一直为美国、日本厂商等所垄断;近年来，本土光刻胶供应商开始涉足高档光刻胶的研发与生产，苏州华飞微电子材料有限公司就是其中一家
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爱普生影像设备全面停用液晶面板制造中的光刻胶剥离液
精工爱普生集团下属的爱普生影像设备（Epson Imaging Device）宣布，2007年7月已在日本国内的所有事业所全面停用列入PRTR（污染物排放与转移登记制度）的化学物质“乙醇胺（2-Aminoethanol）”。乙醇胺是液晶面板制造
