旭明光电最近宣布,该公司紫外光LED芯片波长在390-420nm时,LED的发光外部量子效率已达40%,即所谓的EQE(EQE-aLED’sabilitytoconvertelectronsintophotons;电子转换成光子的能力),当供给电流在350mA时,输出功
旭明光电最近宣布,该公司紫外光LED芯片波长在390-420nm时,LED的发光外部量子效率已达40%,即所谓的EQE(EQE-aLED’sabilitytoconvertelectronsintophotons;电子转换成光子的能力),当供给电流在350mA时,输出功
LED日光灯以其独特的优势越来越多地走进人们的生活。这种灯究竟有哪些优点呢?今天我们就来盘点一下。首先,LED日光灯不使用水银,而且里面不含铅,传统的日光灯中含有大量的水银蒸汽,一旦这样的灯破碎水银蒸汽就会
LED日光灯以其独特的优势越来越多地走进人们的生活。这种灯究竟有哪些优点呢?今天我们就来盘点一下。首先,LED日光灯不使用水银,而且里面不含铅,传统的日光灯中含有大量的水银蒸汽,一旦这样的灯破碎水银蒸汽就会
家登(3680)2月因工作天数回归正常,加上市场需求回温,晶圆代??工客户产能利用率持稳,且新产品出货量大增的挹注,2月营收强劲跳增142.75 %至8508.1万元,年增92.76%。而家登也因为公司有价证券近期多次达公布注意交
假币不仅严重影响国家的货币流通,影响国家经济建设,而且对百姓来说,假币损害了百姓的利益,让百姓损失了财富。因此我国坚决打击各类制造假币、流通假币的行为。央行昨日通报四类冠字号码百元假币的识别方法。央行
消费者应关注“光生物安全”,LED包装怎么标识?这是一个问题。 在业界看来,LED参数众多,关键是需要将消费者必须知道的性能明确标识出来。 据悉,在上述研讨会达成的共识中,除常规要求,企业还需要在包装上明确质
避开杀戮战场,紫外光LED特殊应用市场备受看好,光电协进会(PIDA)指出,目前从事紫外光LED磊芯片、晶粒生产的日商以Nichia(日亚化)、NitrideSemiconductor(NS)等为主。NS虽然从UVLED磊芯片、晶粒、封装、应用产
连于慧/台北 日前台积电研发资深副总蒋尚义才呼吁设备厂要多加把劲,为先进制程技术的机台设备研发加把劲,全球半导体设备大厂也都努力推新设备应战。应用材料(Applied Materials)日前表示,将针对16奈米及以下制程
【萧文康╱台北报导】半导体设备厂家登(3680)积极布局18寸晶圆设备,董事长邱铭干昨表示,该公司是台湾唯一一家参与国际标准规格设定的厂商,他并预期,台湾某大晶圆代工厂第1条18寸试产线将于2013年试产,推估201
台积电研发副总经理林本坚昨(6)日参加台湾半导体展(SEMICONTaiwan)展前记者会时指出,台积电28纳米今年底小量生产,明年初预估量会放大,仍采用多重曝影(multipatterning)的浸润式(immersion)微影技术。台积
台积电研发副总经理林本坚昨(6)日参加台湾半导体展(SEMICON Taiwan)展前记者会时指出,台积电28纳米今年底小量生产,明年初预估量会放大,仍采用多重曝影(multi patterning)的浸润式(immersion)微影技术。台
GlobalFoundries今天宣布,最新的20nm工艺试验芯片已于近日成功流片,这也是新工艺发展之路上里程碑式的关键一步。GlobalFoundries20nm工艺使用了四家电子设计自动化(EDA)厂商的工艺流程,分别是CadenceDesignSystem
GlobalFoundries今天宣布,最新的20nm工艺试验芯片已于近日成功流片,这也是新工艺发展之路上里程碑式的关键一步。 GlobalFoundries 20nm工艺使用了四家电子设计自动化(EDA)厂商的工艺流程,分别是Cadence Desi
GlobalFoundries今天宣布,最新的20nm工艺试验芯片已于近日成功流片,这也是新工艺发展之路上里程碑式的关键一步。 GlobalFoundries 20nm工艺使用了四家电子设计自动化(EDA)厂商的工艺流程,分别是Cadence Design
位于美国南卡罗来纳哥伦比亚市LED制造商Sensor Electronic Technology Inc(SETi)不断改进生产工艺,最近展示了其深紫外光(UV)LED产品UVTOP275,寿命超过10,000小时。其预测LED寿命的方法是根据统计学原理对几个批次的
1 引言 单片机(Microcontroller)一般都有内部ROM/EEPROM/FLASH供用户存放程序。为了防止未经授权访问或拷贝单片机的机内程序,大部分单片机都带有加密锁定位或者加密字节,以保护片内程序。如果在编程时加密锁定
Intel近日亲口承认,备受关注的极远紫外光刻(EUV)技术可能又要推迟了,要赶不上10nm工艺这一里程碑步骤希望渺茫。 Intel目前的计划是在14nm工艺上扩展193nm沉浸式光刻技术,预计2013年下半年实现,然后2015年下半
Intel近日亲口承认,备受关注的极远紫外光刻(EUV)技术可能又要推迟了,要赶不上10nm工艺这一里程碑步骤希望渺茫。 Intel目前的计划是在14nm工艺上扩展193nm沉浸式光刻技术,预计2013年下半年实现,然后2015年下半年
早春南京,春芽萌动。坐落在南京经济技术开发区的液晶谷建设工地一片繁忙的景象。2月23日~24日,《中国电子报》记者对中电熊猫信息产业集团有限公司(简称中电熊猫)第6代液晶面板项目建设进展情况进行了实地采访,看