-
库存误读导致供应过剩 代工厂产能利用率下降
-
面临产能利用率下滑 晶圆代工厂商忧心忡忡
-
多重因素导致产能利用率连续下滑，晶圆代工厂商忧心忡忡
晶圆代工厂商在2007年初面临产能利用率连续第二个季度下降，以及销售额大幅减少。 预计2007年第一季度半导体销售额降幅会大于通常的季节性下降，而且产能利用率不会出现真正的反弹。这种令人失望的动态令晶
-
现代半导体称不打算将业务部搬到中国
韩国内存芯片巨头现代半导体公司在星期三否认了韩国地方媒体报道称它打算将业务部搬到中国的消息。 由于现代半导体之前表示将新建一座芯片生产厂来生产12英寸（300毫米）硅片，加上它已经与合作伙伴在中国组建了一家
-
日本半导体材料巨头增加投资以提高产能
据报道，随着手机和平板电视机对半导体芯片需求的大幅增加，共占有全球6成以上市场份额的日本半导体材料领域的两大巨头——SUMCO公司和信越化学工业公司将加大设备投资力度。 据悉，排名全球第二的日本SUMCO公司为增
-
英特尔对AMD实施挤压 密谋高端芯片生产移到中国
英特尔正密谋把新的高端芯片移到中国，欲借未来中国的产能继续对AMD实施挤压。 AMD在上周五发布预警，宣布第四季度盈利“极低”，让投资者做好心理准备，AMD股价应声大跌11%。但是老对手英特尔对此似乎还不满意，消
-
中国芯片产业生产建设增长率即将超越美国
半导体工业协会(SEMI)称，过去五年来美国在芯片上的花费约为87亿美元，而中国在接下来三年中的芯片生产建设费用将超过这个数字，达到98亿美元。据该协会对工业主管和政府官员的调查访问，去年中国花在芯片设备上的钱
-
芯片: nVIDIA芯片从90nm过渡到80nm并不危险
芯片厂商表示，芯片生产工艺从90nm转换到80nm，主要是光蚀刻工艺的改进，这种转换并不会对诸如GPU等芯片生产造成很大的风险。90nm设备基本上可以用在80nm工艺生产上，要改进的就是光蚀刻模具，以蚀刻更小的电路
-
中国将于下半年公布芯片退税替代政策
中国将于下半年公布芯片退税替代政策
-
IBM取得芯片生产工艺突破摩尔定律得延续
据国外媒体报道，IBM宣布，该公司已经开发出193纳米DUV(deep-ultravioletopticallithography)技术，可以用于生产只有29.9纳米见方的电路，相当于当前主流芯片的三分之一。目前，英特尔最新的CoreSolo和CoreDuo处理器
-
IBM芯片生产工艺突破 摩尔定律继续有效
IBM芯片生产工艺突破 摩尔定律继续有效
-
美风投公司计划投资国微技术等三家中国企业
北京时间10月5日消息，据国外媒体报道，美国风险投资公司Mayfield基金本周二宣布将领衔投资三家中国企业，这是该公司同中国初创企业投资公司GSR建立合作伙伴关系后首次投资中国公司。 Mayfield基金公司总部位
-
英特尔称芯片漏电技术获突破 07年商用
英特尔称芯片漏电技术获突破 07年商用
-
英特尔暴利曝光：芯片生产成本仅40美元
英特尔暴利曝光：芯片生产成本仅40美元
