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2007年全球半导体设备厂榜单出炉 五强位次依旧
【导读】2007年全球半导体设备厂榜单出炉 五强位次依旧 市场调研机构Gartner日前公布了2007年全球前十大半导体设备供应商名单，设备厂商五巨头排名依旧未变，而ASM International以10亿美元的营收跻身前十大排
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盘点2012年度半导体/电子产业逆市整合重组案
【导读】据EETimesTaiwan 尽管经济情势不佳，2012年的半导体/电子产业界仍有数桩值得注意的厂商合并、收购案;从这些案件中，可看出产业主流技术的演变趋势与未来发展方向。 摘要： 据EETimesTaiwan 尽管经济情势
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ASML看淡订单展望 调降上半年财测
欧洲最大半导体设备供应商艾司摩尔（ASML）16日说，第1季净利增加一倍多，但认为未来两季订单可能只会小幅成长，因而调降上半年财测，反映部分客户的需求减少。艾司摩尔股价应声重挫。艾司摩尔总部在荷兰，是半导体产
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半导体设备厂ASML调降H1营收预估 称逻辑客户需求下滑
欧洲最大半导体设备商艾斯摩尔（ASMLHoldingNV）（ASML-NL）（ASML-US）周三（16日）公布财报，虽然第一季净利倍增，但却调降上半年预估，因部分客户订单需求已开始下滑。消息一出，在荷兰挂牌的ASML周三开盘股价随即
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客户需求下滑 艾斯摩尔调降H1营收预估
欧洲最大半导体设备商艾斯摩尔(ASML )周三(16日)公布财报，虽然第一季净利倍增，但却调降上半年预估，因部分客户订单需求已开始下滑。今年第一季ASML净利从去年同期的9600 万欧元，大幅跃进至2.49 亿欧元(3.44 亿美元
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2013年全球半导体制造设备支出大幅下滑
根据国际研究暨顾问机构Gartner的最终统计结果， 2013年全球半导体制造设备支出总额为338亿美元，较2012年下滑11.5%。晶圆级制造设备需求表现优于市场，尤以微影(lithography)及相关制程为强，反观后端制造领域则表现
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英特尔放慢技术升级步伐：担心成本分摊不公
导语：美国《华尔街日报》网络版周三刊登题为《英特尔等芯片制造商放慢新技术升级步伐》(Intel,OtherChipMakersSlowShifttoNewTechnology)的评论文章称，虽然芯片行业的晶圆尺寸已经到了快要更新换代的时候，但由于英
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英特尔放慢技术升级步伐：担心成本分摊不公
导语：美国《华尔街日报》网络版周三刊登题为《英特尔等芯片制造商放慢新技术升级步伐》(Intel,OtherChipMakersSlowShifttoNewTechnology)的评论文章称，虽然芯片行业的晶圆尺寸已经到了快要更新换代的时候，但由于英
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英特尔放慢技术升级步伐：担心成本分摊不公
导语：美国《华尔街日报》网络版周三刊登题为《英特尔等芯片制造商放慢新技术升级步伐》(Intel,OtherChipMakersSlowShifttoNewTechnology)的评论文章称，虽然芯片行业的晶圆尺寸已经到了快要更新换代的时候，但由于英
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ASML估Q1营收未达标
欧洲最大半导体设备供应商艾司摩尔控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)预估第1季营收低于预期，并表示获利能力将受到下一代极紫外光(EUV)系统订单的箝制。艾司摩尔今天在声明稿中指出，预期2014年前3个月销售净额约14
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奇虎调整公司董事会 两董事辞职 陈恂加入
1月22日消息，奇虎360（NYSE:QIHU）今日公布了公司董事会董事人选的变动消息。涂鸿川因个人原因从董事会离职，立即生效。李曙君因个人原因向董事会提交辞呈，他将与2014年5月1日公司提交20-F文件后辞职。银湖投资集团
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极紫外光刻2015年商用：目标10nm
全球最大的半导体制造设备供应商荷兰ASML今天重申，极紫外(EUV)光刻技术将在2015年如期投入商用，各大半导体厂商都在摩拳擦掌。ASML首席执行官兼总裁Peter Wennink公开表示：“NXE:3300B极紫外光刻扫描仪的整合
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联发科并购晨星：成为台湾年度最佳并购
讯：台湾最重要的年度并购活动， 2013“台湾并购金鑫奖”颁奖典礼暨并购实务研讨会28日登场！将颁发“年度最具代表性奖”，由“联发科并购晨星”、“国泰世华参股柬埔寨银
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并购金鑫奖 赢家联发科
台湾最重要的年度并购活动， 2013「台湾并购金鑫奖」颁奖典礼暨并购实务研讨会今（28）日登场！将颁发「年度最具代表性奖」，由「联发科并购晨星」、「国泰世华参股柬埔寨银行」、「中钢参股ArcelorMittal」、「美光
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ELG：2020年欧洲半导体产能增至全球产能20%
据外媒electronicsweekly报道，为实现欧盟副总裁委员NeelieKroes的目标，欧洲领导人集团（ELG）计划到2020年提高欧洲半导体产能，达到全球半导体产值的20％。当欧洲三大半导体公司——意法半导体(ST)、英飞凌(Infine
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ELG：2020年欧洲半导体产能增至全球产能20%
据外媒electronicsweekly报道，为实现欧盟副总裁委员Neelie Kroes的目标，欧洲领导人集团(ELG)计划到2020年提高欧洲半导体产能，达到全球半导体产值的20%。当欧洲三大半导体公司——意法半导体(ST)、英飞凌
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为量产10nm制程铺路 ASML携手IMEC建置APC
艾司摩尔(ASML)与比利时微电子研究中心(IMEC)合作案再添一桩。双方将共同设立先进曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半导体产业突破10奈米(nm)以下先进奈米曝光制程技术关卡，让微影(Lithography)技术
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为量产10nm制程铺路 ASML携手IMEC建置APC
艾司摩尔(ASML)与比利时微电子研究中心(IMEC)合作案再添一桩。双方将共同设立先进曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半导体产业突破10奈米(nm)以下先进奈米曝光制程技术关卡，让微影(Lithography)技术
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为量产10nm制程铺路 ASML携手IMEC建置APC
艾司摩尔(ASML)与比利时微电子研究中心(IMEC)合作案再添一桩。双方将共同设立先进曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半导体产业突破10奈米(nm)以下先进奈米曝光制程技术关卡，让微影(Lithography)技术
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延续半导体量产经济效益 EUV成10奈米制程发展关键
半导体的发展随着摩尔定律(Moore’s Law)演进，虽然是关关难过但还是关关过，其中在制程技术上，主要瓶颈在微影制程的要求不断提高，目前主流曝光技术是采用波长193奈米(nm)的浸润式曝光(Immersion)技术；然而，进入
