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ASML单价近一亿美元的EUV光刻机订单已达10台 预计2012年开始正式交货
2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货；不过，
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ASML单价近一亿美元的EUV光刻机订单已达10台 预计2012年开始正式交货
2010年浸润式微米光刻机台设备(ImmersionScanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货；不过，对
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ASML单价近一亿美元EUV光刻机订单已达10台
2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货;不过，对
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比利时IMEC宣布已安装ASML NXE:3100试产型EUV光刻机
比利时半导体研究机构IMEC最近宣布在其设在比利时鲁汶的研究设施中安装了一台ASML生产的NXE:3100试产型EUV光刻机。IMEC机构的总裁 兼CEO Luc Van den hove会在今天召开的SPIE高级光刻技术会议（SPIE advanced lithog
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EUV光刻机价格暴涨至近亿美元
多年以前，VLSI Research公司的总裁Risto Puhakka曾经预测称：“EUV光刻系统将乏人问津，其售价有可能提升到1.25亿美元的水平。”当时几乎所有的人都认为他是在满嘴跑火车，可是如今，越来越多的厂商开始停止采购这种
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IMEC将在2010年上半年制预投产EUV光刻机
据EETimes报道，欧洲研发机构IMEC首席运营官Luc Van den Hove表示，IMEC将在2010年上半年制成预投产EUV（极紫外）光刻设备。 按照目前的进程，该设备将于2012年在IMEC的300mm生产线上投产。尽管对于EUV在商业制造中
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