10月17日消息,由于业绩暴雷,这导致光刻机龙头ASML股价暴跌,而两天时间股价已跌超20%。
9月2日消息,据国外媒体报道称,在美国要求下,ASML明年可能无法为中国厂商维修光刻机。
8月21日消息,据国外媒体报道称,ASML 首席执行官克里斯托夫-福凯接受采访时表示,世界需要中国生产的"传统芯片",它们将帮助填补欧洲的供需缺口。
7月9日消息,据外媒报道称,由于种种因素,ASML绝不能卖给中国厂商最先进的光刻机,但该公司CEO却表示,世界需要中国生产的“传统芯片”。
6月16日消息,ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机,预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右,也就是2埃米。
6月16日消息,ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机,预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右,也就是2埃米。
5月15日消息,据媒体报道,台积电近日表示,荷兰光刻机制造商ASML的新型光刻机价格过于昂贵,目前不打算采购。
4月29日消息,美国对中国的封锁进一步加剧,甚至不想让ASML为已经卖给中国的光刻机提供售后维护服务,不过在ASML看来,这么做影响并不大,至少基本不会影响其收入。
2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。
9月7日消息,ASML宣布,将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的EUV极紫外光刻机,型号“Twinscan EXE:5000”。
作为半导体制造中的核心装备之一,光刻机至关重要,7nm以下工艺所需的EUV光刻机只有ASML公司能生产,售价达到10亿以上,不过今年EUV的势头熄火了,DUV光刻机需求反而暴涨。
光刻机巨头阿斯麦(ASML)在官网公布了2023年二季度的营收数据,由于DUV光刻机收入增加,该季度营收为69亿欧元,超出市场预期(66.9亿欧元),净利润19亿欧元,毛利率为51.3%;第二季度订单额45亿欧元,同样超出市场预期(39.8亿欧元),其中EUV光刻机订单价值16亿欧元。
7月13日消息,《欧洲芯片法案》的结果已经出炉,高达近500亿元的补贴将启动,为的是打造自主半导体产业链。
日前有报道称,ASML将面向中国市场推出特别版DUV光刻机,不过此事已经辟谣,ASML表示一直以来ASML都遵守所适用的法律条例,公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。
近日,ASML在其官网发表声明称,该公司未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统(即TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统)时,将需要向荷兰政府申请出口许可证。
据业内消息,近日荷兰半导体设备巨头 ASML 和比利时微电子研究中心(IMEC)宣布双方将在开发最先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻试验线的下一阶段加强合作,为使用半导体技术的行业提供原型设计平台和未开发的未来机遇。
比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 共同宣布,双方将在开发先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻试验线的下一阶段加强合作。
Imec和日本政府支持的以2nm工艺为目标的半导体初创公司Rapidus本月早些时候在东京举行的签字仪式上同意了一项技术合作。
该路线图包括突破性的晶体管设计,从将持续到3纳米的标准FinFET晶体管,到2纳米和A7(7埃)的新的门控全方位(GAA)纳米片和叉片设计,然后是A5和A2的CFET和原子通道等突破性设计。需要提醒的是,10个埃等于1纳米,因此Imec的路线图包括了次 "1纳米 "工艺节点。
近日,在比利时安特卫普举办的未来峰会上,IMEC(微电子研究中心)发布报告,探讨了直至2036年左右的半导体工艺、技术路线图。