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Mentor工具被纳入台积电真正3D堆叠集成的3D-IC参考流程
Mentor Graphics 公司(纳斯达克代码：MENT)日前宣布其解决方案已由台积电使用真正3D堆叠测试方法进行了验证，可用于台积电3D-IC参考流程。该流程将对硅中介层产品的支持扩展到也支持基于TSV的、堆叠的die设计。具体的
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瑞萨通过Mentor的TestKompress/LogicBIST混合解决方案
Mentor Graphics公司(纳斯达克代码：MENT)日前宣布瑞萨电子正在使用Tessent® TestKompress®/LogicBIST混合解决方案，以应对ISO 26262标准规定的对安全很重要的测试要求。这种混合方法要求的测试逻辑非常少，
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明导电子CEO:20nm工艺后 摩尔定律或失效
【导读】Mentor CEO认为：进入20nm、14/16nm及10nm工艺时代后，摩尔定律可能会失效，每个晶体管成本每年的下降速度不到30%，这导致企业面临的成本挑战会更加严峻。 Mentor CEO认为：进入20nm、14/16nm及10nm工艺
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AWSC选择Mentor Graphics Calibre纳米平台用于验证先进砷化镓无线集成电路
【导读】Mentor Graphics公司近日宣布，AWSC已经选择Calibre? nmDRC?和nmLVS?产品作为其针对手机和其他无线应用中砷化镓集成电路的金级核签物理验证解决方案。作为其提供的代工服务的一部分，AWSC将为客户提供Calibr
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SilabTech借助Mentor Graphics工具流程提前发布28纳米高速PHY
【导读】Mentor Graphics公司近日宣布SilabTech Pvt有限公司已首次成功研制出可支持包括PCI Express、SATA、MIPI、M-PHY和USB 3.0在内的最新的28纳米高速混合信号PHY IP，而且比预期时间提前。 SilabTech成功地借
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Mentor Graphics宣布Questa?和Veloce?平台已经增添了高速缓存一致性
【导读】Mentor Graphics公司近日宣布Questa?和Veloce?平台已经增添了高速缓存一致性互联子系统验证。对于按照ARM的AMBA 5 CHI规格设计高性能、分布式计算系统以及按照ARM的AMBA 4 ACE规范设计移动应用设备的工程团队
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AWSC选择Mentor Calibre纳米平台用于验证先进砷化镓无线集成电路
Mentor Graphics公司日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已经选择Calibre® nmDRC™和nmLVS™产品作为其针对手机和其他无线应用中砷化镓集成电路的金级核签物理验证解决方案。作为其提供的代工服务的
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AWSC选择Mentor Graphics Calibre纳米平台验证先进砷化镓
Mentor Graphics公司今天宣布，宏捷科技股份有限公司（AWSC）已经选择Calibre? nmDRC?和nmLVS?产品作为其针对手机和其他无线应用中砷化镓集成电路的金级核签物理验证解决方案。作为其提供的代工服务的一部分，AWSC将
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诺丁汉英盛德芯片设计学院第一批毕业生全部签约跨国公司
2013年9月17日，Mentor Graphics Corp. 今天宣布，金九之初，宁波诺丁汉大学迎来了世界各地的新同学，同时，也送走了一批毕业生。他们是学校英盛德芯片设计学院的第一批学生，目前已经全部签约跨国公司。今年4月，宁
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Mentor在Kronos单元特征化与分析平台中添加嵌入式存储器
Mentor Graphics公司（纳斯达克代码：MENT）今天宣布其已通过添加嵌入式存储器成功拓展了Kronos™单元特征化与分析平台。Kronos平台可在高级集成环境中为标准单元、I/O、复杂单元和嵌入式存储器高效制作精确的性
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Mentor借助仿真就绪型Verification IP为MIPI产品验证加速
Mentor Graphics公司(纳斯达克代码：MENT)日前宣布，MIPI协议验证IP(VIP)适用于其最新一代Veloce®系列硬件仿真平台。这使工程师们能详尽地测试包括一个或多个在其SoC上的MIPI协议接口的被测设备(DUT)，且执行验证
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Mentor CEO: 摩尔定律将在20nm工艺后面临挑战
Mentor董事会主席兼CEOWallyRhines在9月3日于北京举行的Mentor中国论坛上指出，数字半导体工艺目前已进入28nm阶段，但制造企业一直以来都在应对来自成本方面的压力。Mentor的RET/OPC解决方案为中国的芯片代工厂提供了
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Mentor Graphics为飞思卡尔提供Tessent晶片测试、良率分析、Calibre物理验证
【导读】Mentor Graphics公司(纳斯达克代码：MENT)近日宣布飞思卡尔半导体公司(Freescale?)(纽交所代码：FSL，FSL.B)已选定Mentor作为其在晶片测试、良率分析、物理验证和DFM技术领域的理想合作伙伴。 此次合作
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Mentor 为ARM AMBA 5 CHI和AMBA 4 ACE两款设计增添高速缓存一致性和互联性能
2013年6月3日——Mentor Graphics公司（纳斯达克代码：MENT）今天宣布Questa®和Veloce®平台已经增添了高速缓存一致性互联子系统验证。对于按照ARM的AMBA 5 CHI规格设计高性能、分布式计算系统以及按照ARM的A
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SilabTech借助Mentor工具流程提前发布28纳米高速PHY
2013年6月9日——Mentor Graphics公司今日宣布SilabTech Pvt有限公司已首次成功研制出可支持包括PCI Express、SATA、MIPI、M-PHY和USB 3.0在内的最新的28纳米高速混合信号PHY IP，而且比预期时间提前。SilabTech成功
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诺丁汉英盛德芯片设计学院首批毕业生全部签约跨国公司
Mentor Graphics 9月17日宣布，宁波诺丁汉大学英盛德芯片设计学院第一批学生，目前已经全部签约跨国公司。今年4月，宁波诺丁汉大学牵手明导国际(Mentor Graphics)以及欧洲领先的芯片设计公司英盛德(Sondrel)，成立全
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Mentor CEO：摩尔定律在20nm工艺后迎挑战
Mentor董事会主席兼CEOWallyRhines在9月3日于北京举行的Mentor中国论坛上指出，数字半导体工艺目前已进入28nm阶段，但制造企业一直以来都在应对来自成本方面的压力。Mentor的RET/OPC解决方案为中国的芯片代工厂提供了
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诺丁汉英盛德芯片设计学院第一批毕业生全部签约跨国公司
Mentor Graphics Corp. 日前宣布，金九之初，宁波诺丁汉大学迎来了世界各地的新同学，同时，也送走了一批毕业生。他们是学校英盛德芯片设计学院的第一批学生，目前已经全部签约跨国公司。今年4月，宁波诺丁汉大学牵手
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Mentor CEO: 摩尔定律将在20nm工艺后面临挑战
Mentor董事会主席兼CEOWallyRhines在9月3日于北京举行的Mentor中国论坛上指出，数字半导体工艺目前已进入28nm阶段，但制造企业一直以来都在应对来自成本方面的压力。Mentor的RET/OPC解决方案为中国的芯片代工厂提供了
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莱迪思半导体公司与TI和Mentor Graphics联合举办互连研讨会
莱迪思半导体公司日前宣布将在中国的多个城市举办研讨会，帮助设计工程师解决新兴的互连解决方案的挑战。来自TI、Mentor Graphics和莱迪思的专家将探讨针对各种多样化的设计要求的互连解决方案的选择和设计方法。随
