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麻理将电子束光刻可刻制最小图像尺寸降至9nm
麻省理工学院的研究人员表示，他们已经研制出了一种可以刻制尺寸为9nm图像的电子束光刻技术，而此前电子束光刻技术所能刻制的图像尺寸极限则为25nm左右.有关这次研究的详细内容将发表在下一期的《微电子工程》（ Mic
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后ArF时代的光刻征途
Cost matters。用中国话说就是“成本猛于虎”。 半导体业人士最大的梦想莫过于以最小的成本投入换取最大的回报。因此，按比例缩小、在单片晶圆上制造出更多的芯片是创新最强大的驱动力，它影响着成千上万的工程师
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光源问题仍是EUV光刻技术中的难题
GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光源技术方面取得了一定成效，但光源问题仍是EUV光 刻技术成熟过程中最“忐忑”的因素。
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GlobalFoundries光刻专家谈EUV最新进展
GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光源技术方面取得了一定成效，但光源问题仍是EUV光刻技术成熟过程中最“忐忑”的因素。O
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光刻技术：193nm波长光源光刻技术的延寿术与缓兵之计
半导体工业目前的普遍做法是使用的是波长接近200nm的光源来刻制30nm尺寸级别的芯片图像。如果按照常规的光学理论，由于所谓衍射极限的存 在，200nm光源光刻技术的理论分辨率极限应在400nm左右。 然而，实际上人们
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Intel:极远紫外光刻恐将错过10nm工艺
Intel近日亲口承认，备受关注的极远紫外光刻(EUV)技术可能又要推迟了，要赶不上10nm工艺这一里程碑步骤希望渺茫。 Intel目前的计划是在14nm工艺上扩展193nm沉浸式光刻技术，预计2013年下半年实现，然后2015年下半
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EUV掩膜版清洗技术遭遇资金危机
本周在奥斯汀由美国半导体制造技术战略联盟(Sematech)牵头举办的表面制备与清洁技术大会(SPCC:Surface Preparation and Cleaning Conference)上,与会者纷纷表示EUV光刻技术的发展对EUV有关的量测技术以及掩膜清洁技术
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光刻世界的期待与沮丧
数十年来，光刻一直是关键的芯片生产技术。今天它仍然很重要。不过，在最近的SPIE先进光刻技术大会中，一些迹象显示，光刻界及其客户需要的微缩──字面上的微缩──事实上几乎已经有点像心理安慰了。 焦虑、紧张
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谁才是IC大佬们的光刻技术最爱？
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务(至少从对外公布的路线图上看是这样)
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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Intel：极远紫外光刻恐将错过10nm工艺
Intel近日亲口承认，备受关注的极远紫外光刻(EUV)技术可能又要推迟了，要赶不上10nm工艺这一里程碑步骤希望渺茫。 Intel目前的计划是在14nm工艺上扩展193nm沉浸式光刻技术，预计2013年下半年实现，然后2015年下半年
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略异同分析
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方 面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方 面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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Intel：EUV技术的发展可能赶不上我们部署10nm制程技术的脚步
在最近召开的SPIE高级光刻技术会议上，记者了解到了更多有关Intel与EUV光刻技术方面的新动向，据了解，Intel将EUV光刻技术应用到大批 量生产的时间点将会迟于Intel推出14nm制程产品的时间点，而且按现在的发展趋势来
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Intel：EUV技术的发展可能赶不上我们部署10nm制程技术的脚步
在最近召开的SPIE高级光刻技术会议上，记者了解到了更多有关Intel与EUV光刻技术方面的新动向，据了解，Intel将EUV光刻技术应用到大批量生产的时间点将会迟于Intel推出14nm制程产品的时间点，而且按现在的发展趋势来看
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Intel：EUV技术的发展可能赶不上我们部署10nm制程技术的脚步
在最近召开的SPIE高级光刻技术会议上，记者了解到了更多有关Intel与EUV光刻技术方面的新动向，据了解，Intel将EUV光刻技术应用到大批 量生产的时间点将会迟于Intel推出14nm制程产品的时间点，而且按现在的发展趋势来
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比利时IMEC宣布已安装ASML NXE:3100试产型EUV光刻机
比利时半导体研究机构IMEC最近宣布在其设在比利时鲁汶的研究设施中安装了一台ASML生产的NXE:3100试产型EUV光刻机。IMEC机构的总裁 兼CEO Luc Van den hove会在今天召开的SPIE高级光刻技术会议（SPIE advanced lithog
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巴克莱分析师：紧随TSV/EUV技术 450mm大潮2018年将至
不久前台积电公司公布自己转向450mm技术后，巴克莱公司分析师 CJ Muse最近发表了其对450mm技术未来走向的新预测，他认为450mm技术的大潮将在2018年以前来临，不过在此之前各大芯片制造厂商会先完成其它 几项重要的技
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