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设备市场获改善 Cymer、KLA-Tencor调升预测
晶圆设备市场正在得到改善。 Cymer和KLA-Tencor分别调升了各自的预期。周一，光源供应商Cymer称目前公司预计第三季度收入将较第二季度的6200万美元增长30%。新光刻技术光源需求获得了增长。 据悉，该公司此前的预期
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ASML一体化光刻解决方案延续摩尔定律
ASML集团公司在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备，让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸。FlexRay™ (可编程照明技术)和BaseLiner™ (反馈式调控机制)为ASML一体化光刻技术 (ho
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我国科学家发现一种新型光学晶体
2月19日的《自然》杂志，以《中国藏匿的晶体》为题，用3页篇幅对中科院理化技术研究所陈创天院士率领的团队，发现并生长出一种最新的光学晶体———氟代硼铍酸钾(KBBF)晶体进行了详细报道，并称“中国实验室成为这种
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我国科学家发现一种新型光学晶体
2月19日的《自然》杂志，以《中国藏匿的晶体》为题，用3页篇幅对中科院理化技术研究所陈创天院士率领的团队，发现并生长出一种最新的光学晶体———氟代硼铍酸钾(KBBF)晶体进行了详细报道，并称“中国实验室成为这种
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晶圆设备商爆料 AMD45nm2009年上马
虽然说AMD已经按部就班推进自己的45nm制程事业，但是眼看11月11日，Intel投资的三个45nm制造厂的第一批产品已经准备就绪要上市了，加上财报发布的巨大落差，AMD的好消息似乎没几个呢。不过今天ASML公司的季度电话会议
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晶圆设备商爆料 AMD45nm2009年上马
虽然说AMD已经按部就班推进自己的45nm制程事业，但是眼看11月11日，Intel投资的三个45nm制造厂的第一批产品已经准备就绪要上市了，加上财报发布的巨大落差，AMD的好消息似乎没几个呢。 不过今天ASML公司的季度电话会
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惠普向第三方授权纳米压印光刻技术
加州Nanolithosolutions公司日前获得了惠普实验室授权的一项纳米压印光刻技术，该技术可用于生产线宽只有15纳米的电路板原型。对此，公司首席执行官Bo Pi称：“利用惠普的该项技术，我们可以从事生物芯片、光子芯片，
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光刻行业遭双重打击 下一代技术面临难题
曾经看来大有希望的远紫外(EUV)光刻技术面临着重重困难，193纳米沉浸式技术似乎成为了必然的选择，但成本高昂，而且很难延伸到16纳米节点以下。半导体光刻工艺正面临着技术和成本方面的双重压力。 半导体光刻工艺面临
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IBM研究芯片制造新工艺 目前已获试验性成果
北京时间2月20日，IBM公司旗下研究公司成功地研究出了一种方法，可以用现有的设备生产出29.9纳米的硅片，远比如今的芯片要小。这项技术进步有助于在未来芯片生产中降低成本。 这项技术突破是围绕着一种增强性和
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10大最具生命力技术
过去的30年里，各种新技术如过眼烟云、层出不穷，但是这10大创新技术实实在在地征服了世界 从通俗文化的观点来看，1975年就是一个大杂烩。从技术的观点来看，1975年就不是那么复杂了：这一年，名叫Jobs和Wozniak的年
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纳米浸入式光刻技术工业化在即
比利时微电子研究中心（IMEC）正在加速45纳米以下微电子技术的开发，已与世界10大设备供应商签定协议，协议的签署使得IMEC能在最先进的设备条件下进行研究与开发。根据IMEC所确定的发展战略，2003-2005年研发45纳米C
