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魏少军：半导体投资应理性，中国突围不必紧盯光刻机、EDA
魏少军表示，在国际形势加速“国产替代”需求背景下，国内半导体产业受到市场追捧并非好现象，呼吁投资者应理性投资，不要过度追求短期利益。他指出，国内半导体产业要健康发展，资金和技术缺一不可，且突围之法不必过度关注光刻机和EDA... 投资者应理性看待
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魏少军：半导体投资应理性，中国突围不必紧盯光刻机、EDA
魏少军表示，在国际形势加速“国产替代”需求背景下，国内半导体产业受到市场追捧并非好现象，呼吁投资者应理性投资，不要过度追求短期利益。他指出，国内半导体产业要健康发展，资金和技术缺一不可，且突围之法不必过度关注光刻机和EDA...
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台积电占据业界 EUV光刻机安装量的 50%，晶圆累计产量达60%
台积电最近举行了年度技术研讨会，在会上透露了大量关于未来芯片制造业务的信息。其中包括关于台积电先进工艺节点的新细节，比如 N5、N4、N3 和 N12e。
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从来没有什么救世主，也没有7nm光刻机！
随着近年来芯片行业的快速发展，大众对于光刻机的关注度越来越高。 媒体和厂商也更加频繁地使用“7nm光刻机”这样的关键词来进行宣传。但事实是：从来就没有什么救世主，也没有7nm光刻机。 7nm只是一种工艺的代号，它和光刻机本身是不挂钩的。按照一般人的理解7nm光刻机就是指能制作7nm工艺的光刻机，这个命名方式乍看起来很合理，实际上漏洞百出。
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已获批准！英唐智控收购日本光刻机公司
图源 | 深交所互动易 8月24日消息，英唐智控在互动平台表示，先锋微技术自有的生产设备中包含有日本产的光刻机设备，其收购事项已经获得日本政府批准。 据了解，先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造。关于该光刻机项目是否会与华为合作时，英唐智控回应称
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台积电大量采购光刻机，准备量产7nm与5nm芯片
ASML作为全世界最先进的光刻机制造企业，全球高端芯片几乎都来自于ASML，垄断了全球的光刻机市场。台积电能在芯片领域遥遥领先就是因为有ASML的光刻机供应。
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光刻机被抵押，武汉千亿芯片项目怎么了?
据财新网报道，武汉市东西湖区人民政府官方发布《上半年东西湖区投资建设领域经济运行分析》报告，其中正式对外宣告了武汉弘芯半导体制造有限公司(HSMC，下称武汉弘芯)的危机。
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已获批准！英唐智控收购日本光刻机公司
8月24日消息，英唐智控在互动平台表示，先锋微技术自有的生产设备中包含有日本产的光刻机设备，其收购事项已经获得日本政府批准。 据了解，先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造。关于该光刻机项目是否会与华为合作时，英唐智控回应称，在满足其自身生产研发需要的前提下，不排除向具备条件的其他客户提供产能支持，但公司目前尚未启动该类型的合作。
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内存又要跌价了？SK海力士计划在M16工厂引入EUV光刻机
在进入20nm节点之后，内存工业也面临着CPU工艺一样的制造难题，微缩越来越困难，制造工艺复杂，导致内存成本居高不下。如今7nm以下的处理器用上了EUV光刻机，内存很快也要跟进了，SK海力士计划在韩国
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华为强势挖角 5nm光刻机两年内量产？细思恐极
今年5月15日，美国针对华为推出了新的出口管制措施，禁止华为使用美国的EDA软件来设计芯片，同时晶圆代工厂也无法使用美国的半导体设备来为华为生产芯片。因此，华为的芯片设计和芯片制造都陷入了巨大的困境。
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阿斯麦 ASML 二季度交付 7 台极紫外光刻机，新增订单远不及上一季度
7 月 15 日消息，据国外媒体报道，在处理器等各类芯片的制造过程中，光刻机至关重要，目前芯片制造工艺已提升到了 5nm，只有光刻机制造商阿斯麦的极紫外光刻机能满足这一先进工艺的要求。阿斯麦极紫外光刻
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中国还需要EUV光刻机吗？中芯国际：量产和研发工艺暂不需要
EUV光刻机是制造7nm以下节点先进工艺的必备工具，目前国内还没有EUV设备。作为国内最先进的晶圆代工厂，中芯国际董事长周子学日前表态，该公司已经量产和研发的工艺还不需要EUV光刻机。 光刻是半导体芯
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华为要进军光刻机制造，两年量产5nm光刻机？还是又一场媒体“自嗨”？
物联网智库在今年5月18日的华为公司第十七届全球分析师大会上，华为轮值董事长郭平表示，求生存，是华为现在的主题词。在美国政府的咄咄逼人下，华为显然急需谋求破局。是否要进军光刻机制造或者半导体设备领域，或许华为还在谨慎考量。这几天，关于华为要进军光刻机的消息刷屏微博和微信朋友圈。纵...
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华为招聘“光刻工程师”，打算自己研发芯片制造技术
近日，华为在遭受美国第二轮制裁后，直接被切断了自研芯片供应链，台积电已经确认9月14日后不再为华为供应芯片。
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技术奇迹！EUV光刻机被美国限制出口的真相
EUV光刻机是一项技术奇迹。 一台发生器每秒喷射出5万个微小的熔锡液滴，高功率激光对每个液滴进行两次爆破，第一次可以使锡成形，第二次是使锡蒸发成等离子体。 等离子体发出极紫外光辐射，这种辐射聚集成光束
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ASML放言：没有我们的EUV光刻机 芯片厂商造不出7nm以下工艺
作为半导体芯片生产过程中最重要的装备，光刻机一直牵动人心，制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。ASML副总裁Anthony Yen日前表态，如果没有EUV光刻机，那么芯片厂商是造不出7nm以下工艺芯片
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中科院5nm激光光刻弯道超车?95后本科生DIY纳米级光刻机？背后的真实情况
资料来源：知乎、大数据文摘、传感器技术等 物联网智库，整理发布， 转载请注明来源和出处。 导 读 中国苦“芯”久矣！中国慕“光刻机”亦久矣！如果我们真的在核心技术领域取得了重大进展，那确实值得大书特书，大力报道；但如果夸大其实，自我高潮，那只能
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中国还需要EUV光刻机吗？中芯国际：暂不需要
消息来源：驱动之家 EUV（极紫外光刻）光刻机是7nm以下节点制程工艺必备的，但目前来说国内还没有使用EUV设备。 日前在回应投资者提问时，中芯国际董事长兼执行董事周子学表示， 关于设备采购公司依据相关商业协议进行，不对单一设备的采购情况进行评论。公司
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半导体-芯片-光刻机产业链
最近半导体产业，仍保持强势上涨行情。芯片半导体的国产替代化，需要几年，甚至十几年的时间完成，国内每年进口的芯片超3000亿美元，位居各行业之首，加上美国贸易战对核心科技的封锁，需要我们走出一条自己的芯片路。虽然目前和顶级的芯片商，差距还很大，但相信中国的企业能夹缝求存发展，加大科研投入，实现芯片国产替代化。
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ASML表态: 没有EUV光刻机，芯片厂商造不出7nm以下工艺芯片
作为半导体芯片生产过程中最重要的装备，光刻机一直牵动人心。事实上，制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。 光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，而且它决定了芯片的工艺水平，常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平，10nm工艺之后难度越来越大，光刻机也需要升级到EUV级别。
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