考虑到 EUV 光刻机的产能有限,因此各大晶圆厂商都希望能够第一时间入手最新一代的光刻机,从而提升自家晶圆的产能,英特尔也正不断地采购 EUV 光刻机,以满足先进制程晶圆的制造。
荷兰ASML公司 (全称: Advanced Semiconductor Material Lithography,该全称已经不作为公司标识使用,公司的注册标识为ASML Holding N.V),中文名称为阿斯麦尔(中国大陆)、艾司摩尔(中国台湾)。
近几年来,我国科学技术不断发展。在有些技术方面甚至领先国际水平,在近几天北京冬奥会上科学水平应用在人工智能化中,也让世人叹为观止。
光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2月11日消息,全球最大的光刻机企业ASML在刚刚公布的2021年财报中宣称,中国企业东方晶源正在中国积极地销售可能侵犯他们知识产权的商品。这可能吗?
众所周知,我国在半导体领域遭到了美国的严厉封锁,从芯片到光刻机,任何厂商都不能向中方提供先进设备和技术,否则就要遭到美方的打压。
按照海关数据,2021年,国内进口芯片金额近4400亿美元,创下了历史纪录,要知道在所有的进口的商品中,芯片金额占比高达28.6%,可见国内对于国外的芯片有多依赖。
据台媒报道,英特尔宣布向荷兰光刻机制造商ASML预订了一台仍在设计中的顶级EUV光刻机,为业界首家。这台光刻机型号为High-NA量产型EUV光刻机EXE:5200,是业界最强的光刻机,此刻尚未面世。
在全球芯片短缺的背景下,ASML光刻机的生产及交付至关重要,该柏林工厂的火灾是否会影响到生产也备受关注。
这一年多来,全球半导体产能紧张,台积电等芯片制造公司也在积极扩大产能,光刻机之类的设备很抢手,在这个关键时刻,全球光刻机一哥ASML的工厂发生火灾,目前损失还在评估中。
这几年中,台积电一跃成为半导体制造行业的大哥,不仅是全球晶圆代工的绝对主力,而且先进工艺也超越了Intel、三星等对手,更是首发了EUV光刻工艺,明年还要量产3nm工艺。
随着先进制程芯片上量(包括逻辑芯片和存储器),芯片制造端的高技术含量规模也在不断扩大,其中,最具代表性的就是EUV光刻机,市场对其需求在未来几年将大幅增加。
目前,全球的缺芯现象还在持续,各国都在积极布局半导体。而这其中有一个最为关键的设备,现在谁也绕不开,那就是光刻机。
自从进入21世纪以来,身为制造业大国,我国之所以会在高端科技领域屡屡面临被外国卡脖子的困境。一来是因为技术,二来是因为设备
由于中国企业长时间秉承着“轻研发、重营销”经营理念,因此尖端技术的储备一直落后国际水准,而光刻机便是最具代表性的产品。其实,中国并非是没有光刻机生产商,只不过国产光刻机最高精度仅为90nm,完全达不到高端芯片生产要求。
受市场缺芯影响,不少半导体产业链企业都上调了业绩预期,ASML公司便是其中之一。在10月3号举办的在线投资者活动中,ASML表示, 2025年公司总营收预计会在240亿欧元到300亿欧元之间。
众所周知,在芯片制造过程中,最重要的半导体设备就是光刻机。为什么说他最重要,一方面是因为它占所有制造设备成本的22%左右,同时也占工时的20%左右。
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