随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战,目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有达
要了解光刻机为何为何受到如此的热捧,首先简单了解一下什么是光刻机。光刻机的工作方式通常是在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程,而这种方式正是芯片制造的核心流程之一。光刻机有几种分类,有专门用于芯片生产的,有用于封装的,有用于LED制造领域的投影光刻机。本次主要讲的便是芯片制造用的光刻机,而在这个领域中,ASML无疑是绝对的龙头,占据光刻机市场80%的份额。
为了招聘人才,ASML公司制作了全世界最小的招聘广告,并获得了吉尼斯世界记录。这个广告长33.27微米,宽7.76微米,面积为258平方微米,比一根头发还小。上面刻有ASML宣传语“To truly go small, you have to think big”(想要真的变小,那么你必须有宏大的想法)。
中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加,他出面解答了一些媒体关心的话题。
在光刻机领域,荷兰ASML公司几乎垄断了全球高端光刻机市场,在EUV光刻机中更是独一份,7纳米及以后的工艺都要依赖EUV光刻机。而日前,一则关于荷兰光刻机巨头拒绝接收中国留学生简历的消息近日在社交媒体流传,根据流传的邮件称,迫于美国政府的压力,ASML公司被曝禁止招收中国籍员工。
荷兰ASML是世界顶尖光刻机的全球唯一生产商。 众所周知,航空发动机和光刻机分别代表了人类科技发展的顶级水平,都可以算得上是工业皇冠上的夺目的明珠。目前,我国航空发动机已经有了长足的进步,那么,我国的光刻机发展现状如何?这种誉为新时代“两弹一星”级别的“神器”我国能赶超欧美吗?特别是最近某科技媒体称,“是什么卡了我们的脖子—— 这些“细节”让中国难望顶级光刻机项背”,笔者根据公开资料解析我国光刻机最新进展。所谓光刻机,原理实际上跟照相机差不多,不过它的底片是涂满光敏胶(也叫光刻胶)的硅片。各种电路图
什么是光刻机呢?本节小编就带大家一起认识一下光刻机。
据多家媒体证实,长江存储从荷兰阿斯麦(ASML)公司订购的一台光刻机已抵达武汉。这台光刻机价值价值7200万美元,约合人民币4.6亿元。另据媒体报道,中芯国际在中兴事件之后也向该公司下单了一台光刻机,这台名为EUV(极紫外线)光刻机更是身价不菲,价值1.2亿美元,交货日期尚不确定。
中兴通讯受美国政府制裁一案,为大陆高端芯片的自主拉起警报,大陆自官方到民间无不立刻加大芯片研发的投资力度。日前有消息指,长江存储与中芯国际在近日突破海外封锁,先后从荷兰艾司摩尔(ASML)公司订购了两台总值近两亿美元的高端光刻机。
随着光产业结构的升级与应用,该行业的发展迅猛。近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工,能够极大简化工艺流程,将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技术“革命”,目前在国内尚未见有此类产品成功研发的报道。
微机电系统(MEMS)、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商EV集团(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT,旨针对大容量先进封装应用推出的全新自动掩模对准系统。IQ Aligner NT光刻机配备了高强度和高均匀度曝光镜头、全新晶圆处理硬件、支持全局多点对准的全 200 毫米和全300毫米晶圆覆盖、以及优化的工具软件。与EVG此前推出的IQ Aligner光刻机相比,产出率和对准精度都提升了两倍。这套系统最大程度地满足了对后端光刻最严苛的要求,成本相较竞争者降低30%。
每每提到半导体行业发展,免不了要说下中国最近两年发展集成电路的决心之强、投资之大,国内公司对人才也求贤若渴,不惜高薪挖人,但在关键技术上,我们落后欧美公司还是挺多的,特别是在半导体制造装备上,先进的光刻机还被欧美封锁,有钱也买不到。进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折合每套系统售价超过1亿欧元,可谓价值连城。
产业链有传言称,台积电与苹果达成A10芯片独家供应协议。作为台积电的主要竞争对手,三星电子加快提升芯片工艺进程。据外媒Korea Times消息,三星电子在本月初派出包括一名执行副总裁在内的团队访问ASML总部,计划引
对于普通人来说,光刻机或许是一个陌生的名词,但它却是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过光刻技术的锻造。记者13日从清华大学获悉,国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发&rd
记者23日从中科院光电技术研究所获悉,该所微电子专用设备研发团队自主研制成功紫外纳米压印光刻机。据中科院光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍,该所自主研发的新型
上海微电子装备有限公司成立于2002年,公司主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、3D-TSV、OLED-TFT、LED、Power Devices等制造领域。这是IC制造领域的
2010年全球存储器可能出现供应缺货,而且非常可能会延续下去。为什么?可能有三个原因,1),存储器市场复苏;2),前几年中存储器投资不足;3),由ASML供应的光刻机交货期延长。
致力于投影光刻机研发、生产、销售与服务的上海微电子装备有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment;SMEE),将于6/17至19来台参加2014台北国际光电周暨LED照明展,展出用于封装以及LED产业光刻机设备。此次,将
【导读】中国半导体企业走向产业链核心 渐受风投追捧 一贯孱弱的中国半导体设备业忽然成了美国风投追逐的对象。《第一财经日报》昨日获悉,国内目前唯一能为12英寸半导体工厂生产设备的公司——中微半导体公司
【导读】中国半导体设备企业渐受风投追捧 一贯孱弱的中国半导体设备业忽然成了美国风投追逐的对象。《第一财经日报》昨日获悉,国内目前唯一能为12英寸半导体工厂生产设备的公司——中微半导体公司(下称“中