业内消息,近日光刻机制造商阿斯麦(ASML)公布了2024年第一季度业绩,财报显示,该公司当季总净销售额53亿欧元,环比下降27%;毛利率51.0%,上季度为51.4%;净利润12亿欧元(当前约92.4亿元人民币),环比下降 40%,低于分析师预期。
4月18日消息,光刻机巨头阿斯麦(ASML)业绩爆雷,这也导致公司股价大幅下挫。
3月31日消息,近日,全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)打算从荷兰出走的消息引发关注。
业内消息,近日美国存储芯片大厂美光计划首先采用日本佳能的纳米压印(NIL)光刻机,旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储器的成本。
2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。
近日,美国智库战略与国际研究中心(CSIS)发文指出:硅光子学支撑并推动了光互连和光计算的进步,这项新兴技术可能会改变中美在半导体和人工智能方面的竞争。
12月10日消息,尼康宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”,生产效率、套刻精度都会有进一步提升。
日前韩国今日电子新闻报道称三星计划斥巨资进口大量的半导体设备,其中包括更多的 ASML 极紫外(EUV)光刻设备。尽管因为合同中的保密条款未能披露具体细节,但证券市场消息称,该协议将使 ASML 在五年内提供总共 50 套设备,而每台单价约为 2000 亿韩元(当前约合人民币 11.16 亿),总价值可达 10 万亿韩元(当前约合人民币 558 亿)。
上个月佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。然而,近日佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示,该设备无法出口到中国。
10月25日,第七届国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions,IWAPS)在浙江丽水盛大开幕。
ASML预计2023年第四季度的净销售额在67亿至71亿欧元之间,毛利率在50%至51%之间。
最新消息,近日佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。
业内消息,近日多家外媒报道俄罗斯定下多个宏大科技领域的目标,其中包括在 2030 年之前建造 10 台的超级计算机,此外还包括在圣彼得堡理工大学的光刻综合体以更低的成本研发出比 ASML 更高效的光刻机。
10月10日消息,这对于ASML来说是不是有点魔幻,俄罗斯号称开发出可以替代光刻机的芯片制造工具。
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System。
9月7日消息,ASML宣布,将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的EUV极紫外光刻机,型号“Twinscan EXE:5000”。
中国光刻机行业一直处于发展的起步阶段,尽管在技术上积累了大量的经验,已经能够制作出14纳米左右的芯片,但是相对国外的工艺而言,这还有很大的差距,面临着重重挑战。
光刻机(Lithography)是一种常见的微电子制造技术,用来在半导体片表面制造电路图案。光刻机利用特殊的光学技术从导入的制图数据生成微小的图案,并将它们印制到半导体片上。
日本相机和光刻机大厂尼康于8月8日盘后公布了今年二季度(2023年4-6月)财报。虽然中高端数字相机销售强劲、出货量增加,但是由于光刻机销售量萎缩,导致合并营收虽然较去年同期增长了8.6%至1581.46亿日圆,但合并营业利润暴跌78.6%至32.9亿日元,合并净利润也暴跌了78.3%至25.76亿日元。
光刻机是现代集成电路制造过程中不可或缺的关键设备之一,它在半导体工艺中起着至关重要的作用。本文将详细介绍光刻机的工艺流程以及设备的售价。