作为半导体制造中的核心装备之一,光刻机至关重要,7nm以下工艺所需的EUV光刻机只有ASML公司能生产,售价达到10亿以上,不过今年EUV的势头熄火了,DUV光刻机需求反而暴涨。
2023年第二季度,ASML实现了净销售额69亿欧元(约合人民币555亿元),同比增长27%。对此,ASML总裁兼CEO彼得·温宁克(Peter Wennink)表示,这主要得益于本季度浸润式DUV光刻机的超额营收,以及在第二季度开始浸润式设备快速发货带来的收入确认。
据业内消息,近日荷兰光刻机巨头 ASML 发布了今年二季度的营收数据报表,其中净销售额为 69 亿欧元,超过了之前预期的 66.9 亿欧元,同比上涨 19.4%。
光刻机巨头阿斯麦(ASML)在官网公布了2023年二季度的营收数据,由于DUV光刻机收入增加,该季度营收为69亿欧元,超出市场预期(66.9亿欧元),净利润19亿欧元,毛利率为51.3%;第二季度订单额45亿欧元,同样超出市场预期(39.8亿欧元),其中EUV光刻机订单价值16亿欧元。
ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示:“我们第二季度的净销售额为69亿欧元,处于预测营收区间的高位;毛利率为51.3%,超出预期目标。这主要得益于本季度浸润式DUV光刻机的超额营收。”
7月13日消息,《欧洲芯片法案》的结果已经出炉,高达近500亿元的补贴将启动,为的是打造自主半导体产业链。
日前有报道称,ASML将面向中国市场推出特别版DUV光刻机,不过此事已经辟谣,ASML表示一直以来ASML都遵守所适用的法律条例,公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。
据业内消息,在荷兰对光刻机实施了出口管制措施之后,业内频传言 ASML 将规避该措施为中国市场推出特供 DUV 光刻机,近日 ASML 官方专门对此进行了回应。
近日,ASML在其官网发表声明称,该公司未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统(即TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统)时,将需要向荷兰政府申请出口许可证。
据业内消息,近日荷兰半导体设备巨头 ASML 和比利时微电子研究中心(IMEC)宣布双方将在开发最先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻试验线的下一阶段加强合作,为使用半导体技术的行业提供原型设计平台和未开发的未来机遇。
当地时间6月30日,荷兰政府正式颁布了有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例。光刻机巨头ASML表示,新规只涉及部分最新的DUV型号,包括TWINSCAN NXT:2000i以及后续推出的浸润式光刻系统。
比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 共同宣布,双方将在开发先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻试验线的下一阶段加强合作。
众所周知,光刻机作为芯片生产过程中的最主要的设备之一,其重要性不言而喻。先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机设备,比如现阶段台积电最先进的第二代 3nm 工艺,离不开 EUV 光刻机。然而,前不久麻省理工学院(MIT)华裔研究生朱家迪突破了常温条件下由二维(2D)材料制造成功的原子晶体管,每个晶体管只有 3 个原子的厚度,堆叠起来制成的芯片工艺将轻松突破 1nm。
相比2022年,今年阿斯麦(ASML)的净销售额有望增长25%以上。
行业调研数据显示,芯片行业的产值和营收一直在不断提高,同时其地位受到大众的关注。光刻机在芯片领域当然独占鳌头,但一颗芯片的成功不只取决于光刻部分,测试对芯片的质量更有不容忽视的意义。
4月10日消息,南大广电在互动平台表示,该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证,并少量销售。
近日,荷兰ASML全球总裁彼得·温宁克悄悄赴华,拜会了中国商务部部长王文涛,双方就ASML在华发展等议题进行了交流。
ASML在最新的声明中指出,这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。
据证券时报,3月9日上午,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)发布声明表示,ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。
随着半导体工艺进入到5nm节点以内,对EUV光刻机的需求也不断增长,目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机,今年的出货量还会进一步提升。