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IMEC利用配备LA-DPP光源的EUV曝光装置成功曝光晶圆
IMEC宣布，成功利用ASML的EUV（extremeultraviolet）曝光装置NXE:3100进行曝光。该EUV曝光装置配备了日本牛尾电机的全资子公司德国XTREMEtechnologiesGmbH公司生产的LA-DPP（laserassisteddischargeproducedplasma）
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IMEC利用配备LA-DPP光源的EUV曝光装置成功曝光晶圆
IMEC宣布，成功利用ASML的EUV（extreme ultraviolet）曝光装置NXE:3100进行曝光。该EUV曝光装置配备了日本牛尾电机的全资子公司德国XTREME technologies GmbH公司生产的LA-DPP（laser assisted discharge produced p
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IMEC利用配备LA-DPP光源的EUV曝光装置曝光晶圆
比利时IMEC宣布，成功利用荷兰阿斯麦（ASML Holding N.V.）公司生产的试制及少量生产用（Pre-Production Tool：PPT）EUV（extreme ultraviolet）曝光装置“NXE:3100”在晶圆上进行了曝光。该EUV曝光装置配备了日本
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台积电扩大研发团队 加速20纳米制程开发
被台积电视为下世代主力的20纳米制程，目前研发工作主要需克服的困难，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季将良率快速提升。为加速20纳米制程研发工作，台积电将研发单位集中到新竹12厂，并扩大研发团队，包含许
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诺基亚西门子与私募谈判失败 售股交易告吹
（林靖东）北京时间7月13日消息，据国外媒体报道，诺基亚和西门子与私募公司进行了12个月的售股谈判近日以失败告终，两家公司放弃了将所持诺西网络公司股份出售出去的打算。 两家公司在周三公布了谈判失败的消息
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台积电扩大研发团队 加速20纳米制程开发
被台积电视为下世代主力的20纳米制程，目前研发工作主要需克服的困难，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季将良率快速提升。为加速20纳米制程研发工作，台积电将研发单位集中到新竹12厂，并扩大研发团队，包含许
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荷兰芯片设备供应商ASML Q2净利同比增长81%
荷兰芯片设备供应商ASML公司在本周三表示，该公司今年第二财季的净利润比去年同期增长了近81%至4.32亿欧元（合6.07亿美元），去年同期该公司的净利润为2.39亿欧元。ASML公司第二财季的销售额比去年同期增长了53%至15
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台积电扩大研发团队 加速20奈米制程开发
苏芳禾／台北 被台积电视为下世代主力的20奈米制程，目前研发工作主要需克服的困难，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季将良率快速提升。为加速20奈米制程研发工作，台积电将研发单位集中到新竹12厂，并扩大研发
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光源供应商看好EUV导入量产时程
尽管紫外光微影(EUV)的一再延迟，已让人对于它的实际商用时程产生疑问，但 EUV 光源供应商 Cymer 表示，随着可提高晶圆产出的新一代光源技术日渐成熟，预估最快在14nm节点， EUV 将可望导入晶圆的量产中。Cymer迄今已
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瑞晶成为30纳米制程转换最快的台湾DRAM厂
瑞晶董事会日前通过30纳米制程转换资本支出18.15亿元决议案，并冲刺单月产能到年底达到8.8万片，成为迈向30纳米制程进展最快的台系DRAM厂。此外，董事会也通过，向台湾欧力士公司申请机器设备售后租回融资约10亿元，
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瑞晶成30纳米制程转换最快的台湾DRAM厂
瑞晶董事会日前通过30纳米制程转换资本支出18.15亿元决议案，并冲刺单月产能到年底达到8.8万片，成为迈向30纳米制程进展最快的台系DRAM厂。此外，董事会也通过，向台湾欧力士公司申请机器设备售后租回融资约10亿元，
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台积电台联电分别抛出设备大订单
日本东京电子(TEL)日前收到来自联电的一笔后继设备订单，价值约为三千零五十万美元，这是TEL今年迄今为止收到的来自联电的最大一笔设备订单，TEL接获来自联电的上一笔订单是在今年四月，价值为一千九百十万美元。与此
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台积电加入EIDEC联盟
台积电与日本瑞萨电子(Renesas)决定加入以研发次世代半导体制造技术为目标的EUVL基板开发中心(EIDEC)。EIDEC是由东芝(Toshiba)领军，由11间日本企业共同出资设立，致力于研究深紫外线(EUV)微影技术。目前EIDEC已经和
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ASML单价近一亿美元的EUV光刻机订单已达10台 预计2012年开始正式交货
2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货；不过，
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ASML单价近一亿美元的EUV光刻机订单已达10台 预计2012年开始正式交货
2010年浸润式微米光刻机台设备(ImmersionScanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货；不过，对
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ASML单价近一亿美元EUV光刻机订单已达10台
2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货;不过，对
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日震效应延烧半导体设备下单
据路透(Reuters)报导，荷兰半导体设备商ASML指出，日本强震打乱客户供应链，导致部分客户下单态度出现迟疑现象。 ASML以微显影机台引领半导体设备市场，近期发布2011年第1季财报，该期间ASML营收为14.52亿欧元(约
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ASML第一季度净利润增至3.95亿欧元 订单规模达8.45亿欧元
荷兰半导体光刻设备供应商ASMLHoldingNV日前宣布，第一季度净利润增加两倍以上达到3.95亿欧元，季度营收同样增加近一倍升至14.5亿欧元，好于分析师预期。季度利润升至3.95亿欧元(5.70亿美元)或每股0.9欧元，一年前同
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2010年全球半导体设备厂商排行榜公布
VLSI Research市调公司近日公布了2010年全球芯片厂用设备制造厂商排行榜，应用材料公司仍然稳居老大位置，而近年来相当活跃的光刻设备厂商荷兰ASML则排名超过东电电子公司(TEL)上升到了第二位，东电电子则在排行榜上
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亚洲产业重镇 封测设备站更稳
国内封测业乐见国际封测设备大厂透过并购壮大版图，包括日月光、矽品及力成等封测大厂强调，爱德万（Advantest）的半导体测试机台长期以来一直是台湾封测业重要设备采购对象，随国际整合元件大厂（IDM）持续对台下
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