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DRAM供不应求因素供给和需求分析
2010年DRAM产业自谷底回春，不淡摆脱过去亏损连连的情况，或是各厂要求政府要纾困，几乎每家DRAM业者都开始赚钱，且DRAM供不应求情况越来越严重，价格也不断上涨，现在DDR3和DDR2价格1颗3美元的情况发生在传统淡季，
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DRAM供不应求因素 供给和需求分析
2010年DRAM产业自谷底回春，不淡摆脱过去亏损连连的情况，或是各厂要求政府要纾困，几乎每家DRAM业者都开始赚钱，且DRAM供不应求情况越来越严重，价格也不断上涨，现在DDR3和DDR2价格1颗3美元的情况发生在传统淡季，
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ASML第一季订单大幅超越预期对半导体行业复苏抱信心
荷兰半导体设备生产商ASML日前公布，第一季营收为7.42亿欧元，优于路透调查得到的分析师预估值7.13亿欧元。第一季机器订单总量为50部，总价值为10亿欧元，路透调查预估分别为43部和10亿欧元。首席执行官EricMeurice在
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ASML第一季订单大幅超越预期 对半导体行业复苏抱信心
荷兰半导体设备生产商ASML日前公布，第一季营收为7.42亿欧元，优于路透调查得到的分析师预估值7.13亿欧元。第一季机器订单总量为50部，总价值为10亿欧元，路透调查预估分别为43部和10亿欧元。首席执行官Eric Meurice
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全球半导体设备资本支出衰退潮有望扭转
国际研究暨顾问机构Gartner发布最终统计结果，2009年全球半导体设备资本设备支出为166亿美元，较2008年衰退45.8%。在主要设备部门中，受到削减资本支出的冲击，晶圆厂设备支出大幅下滑47%，后端设备(BEE)支出亦减少4
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ASML第一季订单量继续增长
荷兰半导体设备生产商ASML的订单状况显示今年第一季情况继续好转，投资者将详细审视该公司业绩，以寻找芯片行业结构性复苏的迹象。分析师将该公司的订单情况视作英特尔和台积电等大型芯片生产商业绩预估的风向标。根
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未来三年内存价格将持续攀升
DRAMeXchange传来噩耗称内存芯片的价格在未来三年内将持续走高。这家市场分析公司将内存产业的兴衰周期定为3年左右，据该公司的分析师表示，2001-2003年，内存业者一直处在亏损期，而2004-2006年则恢复为持续盈利的状
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东芝计划耗资150亿日元生产25纳米闪存
东芝公司今年计划耗资150亿日元(约合1.6亿美元)兴建一条试验生产线，生产小于25纳米制程的NAND闪存芯片。目前东芝生产的NAND闪存是采用32与43纳米技术，主要应用于手机及数字相机等电子消费产品。为生产新的25纳米制
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Intel 22nm光刻工艺背后的故事
去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上，Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，并宣布将在2011年下半年发布相关产品。 当然了，新型半导体工艺的实现并不是Intel一家就能做到的，背后默默贡献半导体设备的功臣却往
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Intel22nm光刻工艺背后的故事
去年九月底的旧金山秋季IDF2009论坛上，Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，并宣布将在2011年下半年发布相关产品。当然了，新型半导体工艺的实现并不是Intel一家就能做到的，背后默默贡献半导体设备的功臣却往往不
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去年光刻机市场销量总体下跌47%
据 Information Network报道，继2008年销量下跌25%之后，2009年全球半导体光刻工具的销量进一步下跌了47%。按销售数量计算，去年光刻工具的销量总和下降了54%，其中248nm DUV光刻机的销量下降的最严重，售出的数量下
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尼康与ASML围绕英特尔展开攻防战
围绕新一代半导体制造中使用的曝光装置，尼康与荷兰阿斯麦（ASML）之间的攻防战越来越激烈。双方最大的焦点是逻辑LSI用曝光装置。更具体地说，就是美国英特尔公司将决定22nm和16nm工艺中选择采用何种曝光装置，而这正
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英特尔22纳米READY 揭秘工艺背后的故事
在去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上，英特尔第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，并宣布将在2011年下半年发布相关产品。当然了，新型半导体工艺的实现并不是英特尔一家就能做到的，背后默默贡献半导体设备的功臣却
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英特尔22纳米READY 揭秘工艺背后的故事
在去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上，英特尔第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，并宣布将在2011 年下半年发布相关产品。 当然了，新型半导体工艺的实现并不是英特尔一家就能做到的，背后默默贡献半导体设备的功
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尼康与ASML围绕英特尔展开攻防战
围绕新一代半导体制造中使用的曝光装置，尼康与荷兰阿斯麦（ASML）之间的攻防战越来越激烈。双方最大的焦点是逻辑LSI用曝光装置。更具体地说，就是美国英特尔公司将决定22nm和16nm工艺中选择采用何种曝光装置，而这正
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台积电持续投资欧洲半导体业
这项设备将安装于台积电的超大晶圆厂——台积十二厂，用以发展新世代的工艺技术。台积电也将成为全球第一个可以在自身晶圆厂发展超紫外光微影技术的专业集成电路制造服务业者。 【IT商业新闻网讯】（记者 周元英）2
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TSMC取得艾司摩尔超紫外光微影设备
TSMC与荷兰艾司摩尔（ASML）公司共同宣布，TSMC将取得ASML公司TWINSCAN NXE:3100 － 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。 这项设备将安装于TSMC的超大晶圆厂（G
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台积电将于十二厂安装ASML超紫外光微影设备
晶圆代工大厂台积电(TSMC)日前与荷兰半导体设备业者艾司摩尔(ASML)共同宣布，台积电将取得ASML的TWINSCAN NXE:3100超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。 该套AS
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台积 攻22奈米添利多
台积电（2330）昨（22）日宣布，将取得艾司摩尔（ASML）超紫外光 (Extreme Ultra-violet，EUV)微影设备，将使得台积在22奈米以下的最先进制程领先全球。 台积电目前40奈米拥有90%以上高市占率，今 将举行一年一度
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台积电跨入EUV微影技术领域
台积电（2330）与微影设备大厂荷商艾司摩尔（ASML）昨（22）日共同宣布，台积电将取得ASML的TWINSCAN NXE：3100极紫外光（Extreme Ultra-Violet，EUV）微影设备。这是台积电在布局多重电子束的无光罩（maskless）、双
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