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首创！台积电取得艾司摩尔超紫外光微影设备研发先进制程
台积电与荷兰艾司摩尔（ASML）公司今(22)日共同宣布，台积公司将取得ASML公司TWINSCAN? NXE:3100 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。 台积电指出，这项设备将
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进攻先进制程 台积电首采ASML超紫外光微影设备
全球晶圆代工霸主台积电(TSM-US；2330-TW)虎年持续跃进，今(22)日与荷兰艾司摩尔(ASML；ASML-US)共同宣布，台积电将取得ASML公司的TWINSCAN NXE:3100超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影设备，将安装于台积电
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台积电取得ASML超紫外光微影设备以研发新世代工艺
TSMC与荷兰艾司摩尔(ASML)公司今日共同宣布，TSMC将取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。这项设备将安装于TSMC的超大晶圆
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半导体设备业扬帆启航？
现实总是在最后时刻击碎梦想。股市之所以往往因传言而上涨，见真相而下跌，然后立即转向又一批想象中的事件，原因就在于此。因此，对于步履蹒跚的市场反弹而言，泄露了当下复苏真实程度的证据并不是好兆头—&md
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GlobalFoundries斥资42亿美元打造晶圆厂
晶圆厂全球晶圆(Global Foundries)计划斥资42亿美元打造位于纽约州Malta镇的芯片厂Fab 8，其中有81%经费会用来采购机器设备，Malta厂将为全球晶圆造价最高的厂房。该厂建厂经费高达42亿美元，其中厂房建设仅占8亿美元
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2009年台积电设备支出达45亿美元
据台积电向台湾证券交易所（TSE）递交的文件，台积电2009年的设备支出达1450亿新台币（约合45.7亿美元），其竞争对手联电的支出为220亿新台币。台积电向Applied Materials订购了280亿新台币的设备，向ASML订购了240亿
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台积电订购机器设备一批，计5.59亿元
(2330)台积电-本公司订购机器设备公告。 1.标的物之名称及性质（如坐落台中市北区ＸＸ段ＸＸ小段土地）:机器设备。 2. 事实发生日:98/12/23~99/1/4 3.交易数量（如ＸＸ平方公尺，折合ＸＸ坪）、每单位价格及交易
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家登：晶圆传载为成长动能 明年中申请上柜
关键性贵重材料保护传送与储存解决方案供货商家登精密(3680)于24日法说会中指出，公司在半导体黄光微影制程中在静电防治与微污染防治等，具多年技术发展经验，目前在国内光罩传送盒市占达七成，同时也是主力客户台积
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台积电取得机器设备一批，计13.85亿元
证交所重大讯息公告 (2330)台积电-本公司取得机器设备公告。 1.标的物之名称及性质（如坐落台中市北区ＸＸ段ＸＸ小段土地）:机器设备。 2. 事实发生日:98/12/16~98/12/22 3.交易数量（如ＸＸ平方公尺，折合Ｘ
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台积电提出其10大优秀供应商
根据过去年来的贡献大小台积电提出10大设备和材料优秀供应商。台积电的高级副总裁及CIO Stephen Tso是这样描述的，为了解决人类的共同问题，环境气候变暖等。在如此挑战的时代中，非常高兴地看到大家对于台积电如此的
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半导体设备行业：全面走出阴影
10月是收获的季节，对全球半导体设备行业来说，这句话同样适用。经历了全球经济危机后，各大设备公司10－11月公布的季度报表开始全面飘红。Applied Materials 11月11日公布的09年第4季财报显示公司已扭亏为盈，净收入
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2010年半导体资本支出预估大增45%至310亿美元
根据巴克莱资本分析师C.J. Muse的最新预测，全球半导体资本支出继今年下滑后，2010年可望大幅回升45%，至310亿美元。 Muse发布的报告指出，2011年资本支出可望再增长25%至380亿美元。依此推算，明年晶圆设备的支
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欧洲最大半导体设备制造商四季度来首次盈利
北京时间10月14日消息，随着芯片厂商设备订单的恢复，欧洲最大的半导体设备制造商ASML报出了2930万美元的净利润，为四个季度来首次盈利。 ASML在今天的声明中表示该公司第三季度净利润为1970万欧元(2930万美元)，即
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光刻巨头ASML四季度来首次盈利
随着芯片厂商设备订单的恢复，欧洲最大的半导体设备制造商ASML报出了2930万美元的净利润，为四个季度来首次盈利。ASML在今天的声明中表示该公司第三季度净利润为1970万欧元(2930万美元)，即每股5欧分，低于去年同期7
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ASML：客户下单增温 微显影设备2010年成长30%
半导体市场回温，ASML市场智库总监Antonio Mesquida Küsters表示，客户对设备下单需求增温，他引用研究机构预测，2010年半导体微显影设备可望成长30%至少达到40亿欧元。尤其晶圆代工领域，经过18个月的压低资本
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2010决胜年 ASML 主攻38纳米、EUV设备
全球最大半导体微显影设备业者ASML表示，目前客户订单增加相当多，但主是来自半导体业者制程微缩而非产能扩充的需求，半导体业者仍持续微缩半导体制程，摩尔定律预料将持续延续。以目前ASML最先进的浸润式微显影机种
