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SEMI研究报告称2012年全球光刻掩膜板市场预计可达32亿美元的规模
SEMI研究报告最新研究报告显示，2010年全球半导体光刻掩膜板市场达到了30亿元规模，预估2012年这一数字可达32亿美元。由于有2008和2009连续两年的签约保障下，半导体光刻掩膜板市场在2010年增长了10%，而未来两年光刻
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2012年光刻掩膜板市场预计可达32亿美元
SEMI研究报告最新研究报告显示，2010年全球半导体光刻掩膜板市场达到了30亿元规模，预估2012年这一数字可达32亿美元。由于有2008和2009连续两年的签约保障下，半导体光刻掩膜板市场在2010年增长了10%，而未来两年光刻
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ASML第一季度净利润增至3.95亿欧元 订单规模达8.45亿欧元
荷兰半导体光刻设备供应商ASMLHoldingNV日前宣布，第一季度净利润增加两倍以上达到3.95亿欧元，季度营收同样增加近一倍升至14.5亿欧元，好于分析师预期。季度利润升至3.95亿欧元(5.70亿美元)或每股0.9欧元，一年前同
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Intel:极远紫外光刻恐将错过10nm工艺
Intel近日亲口承认，备受关注的极远紫外光刻(EUV)技术可能又要推迟了，要赶不上10nm工艺这一里程碑步骤希望渺茫。 Intel目前的计划是在14nm工艺上扩展193nm沉浸式光刻技术，预计2013年下半年实现，然后2015年下半
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微捷码推出代工厂分析框架Excalibur-Litho
21ic讯 微捷码（Magma®）设计自动化有限公司日前宣布推出一款完整的代工厂分析框架——Excalibur-Litho™，支持先进光刻解决方案的开发和监控。Excalibur-Litho是首款集成了设计数据和缺陷、度量
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Magma发布全新光刻开发监测产品Excalibur-Litho
芯片设计软件供应商Magma Design Automation日前发布Excalibur-Litho，该产品包含完整的晶圆厂分析架构，支持先进光刻方案的开发和监测。Magma's New Excalibur-Litho is First System to Efficiently Integrate Rea
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上海华力微电子采用明导国际Calibre? RET和OPC计算光刻平台
明导国际(纳斯达克代码：MENT)今日宣布，由中国政府、上海联创投资管理有限公司、上海华虹(集团)有限公司、上海宏力半导体制造有限公司以及上海华虹NEC电子有限公司等合资成立的晶圆代工企业上海华力微电子有限公司采
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光刻世界的期待与沮丧
数十年来，光刻一直是关键的芯片生产技术。今天它仍然很重要。不过，在最近的SPIE先进光刻技术大会中，一些迹象显示，光刻界及其客户需要的微缩──字面上的微缩──事实上几乎已经有点像心理安慰了。 焦虑、紧张
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EVG推出EVG620HBL光刻系统
EVG在SEMICON China 2011展会期间推出EVG620HBL光刻系统。 这一全新的EVG620HBL全自动光刻系统以经过实战作业验证的EVG光刻机平台为基础，旨在优化高亮度发光二极管(HB - LED)、复合半导体和动力电子设备的生产制造。
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应对快速增长的HB-LED市场需求 EVG推出EVG620HBL光刻系统
世界领先的先进半导体与封装、微机电系统、硅绝缘体（SOI）和新兴纳米技术市场晶圆键合与光刻设备应供应商EVG宣布，其产品组合中再添新成员。 这一全新的EVG620HBL全自动光刻系统以经过实战作业验证的EVG光刻机平台为
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Intel：极远紫外光刻恐将错过10nm工艺
Intel近日亲口承认，备受关注的极远紫外光刻(EUV)技术可能又要推迟了，要赶不上10nm工艺这一里程碑步骤希望渺茫。 Intel目前的计划是在14nm工艺上扩展193nm沉浸式光刻技术，预计2013年下半年实现，然后2015年下半年
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Brewer Science推出OptiStack系统 降低沉浸式光刻工艺开发时间和成本
先进光刻材料领先供应商Brewer Science欣然推出OptiStack系统，集成了材料、软件和工艺支持，专为突破先进光刻限制、为新设备节省时间和成本、提升光刻投资回报率而设计。Brewer Science Announces the OptiStack? S
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一种200V/100A VDMOS 器件开发
摘 要：分析了功率MOSFET 最大额定电流与导通电阻的关系，讨论了平面型中压大电流VDMOS器件设计中导通电阻、面积和开关损耗的折衷考虑，提出了圆弧形沟道布局以增大沟道宽度，以及栅氧下部分非沟道区域采用局域氧
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一种200V/100A VDMOS 器件开发
摘 要：分析了功率MOSFET 最大额定电流与导通电阻的关系，讨论了平面型中压大电流VDMOS器件设计中导通电阻、面积和开关损耗的折衷考虑，提出了圆弧形沟道布局以增大沟道宽度，以及栅氧下部分非沟道区域采用局域氧
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华硕即将推出12X速蓝光刻录机
在过去的2010年，被誉为“刻录专家”的华硕光存储保持着强势增长，在市场上有不俗的表现。据最新消息，华硕光存储将于近日推出一款全球最快的12X速内置蓝光刻录机，继续给力2011，产品参考价格：￥999－1099换玲
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美国伦斯勒理工学院开发新式液体镜头有可能帮助改进浸没式光刻设备
美国伦斯勒理工学院最近开发出一种新式液体镜头，能通过超小型的微流体活塞、以电气方式调整焦距，不须外加零件。此前，液体镜头已经被应用在浸没式光刻设备，用以提升光刻分辨率，使得目前的CMOS工艺得以继续向90纳
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2011年半导体设备市场十大预测
户的双倍光刻订单(包括浸润式光刻设备与EUV)，该市场将保持强劲成长。BarclaysCapital将2011年浸润式光刻设备市场的出货量预测，由原先估计的130台上修为138台，2010年的出货量则估计为115台；在这138台出货中，内存
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先锋推首款多层蓝光刻录机 支持BDXL
蓝光协会今年四月宣布了新的3层-4层蓝光刻录光盘格式BDXL，6月份正式通过成为行业标准。BDXL格式主要面向大容量数据存储，相关BDXL光盘和蓝光录像机产品9月份已经上市，先锋近日则发布全球首款个人电脑用BDXL刻录
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GlobalFoundries 22/20nm工艺启用极紫外光刻 AMD等不及
在半导体产业盛会Semicon West 2010上，GlobalFoundries公布了该公司推动极紫外(EUV)光刻技术投入量产的一些规划细节。按照这份计划书，GF将在 2014-2015年左右将极紫外光刻技术推向商用，届时半导体制造工艺也会进化
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Imec和ASML共同验证用于沉浸式光刻的新型照明系统
Imec和ASML已合作验证ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可编程照明系统FlexRay，通过22nm SRAM单元的制造展示了其潜在应用价值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i扫描光刻设备将安装FlexRay产品，帮助ime
