联华电子日前(14日)宣布,连续第五年同时列名于道琼永续性指数(Dow Jones Sustainability Indexes, DJSI)之「世界指数(DJSI-World)」及「亚太指数(DJSI-Asia Pacific)」为成份股之一。2012年道琼永续性世界指数由全球
联电荣誉董事长曹兴诚说,台湾近期一直谈台日企业联盟,但科技界发展的趋势已经改变,具有创意、设计与服务的硬体产品才有卖点,日本在此却是处于弱势,台湾企业应该放弃追求营收成长,改做有专精性的产品,才能把饼
联电荣誉董事长曹兴诚说,台湾近期一直谈台日企业联盟,但科技界发展的趋势已经改变,具有创意、设计与服务的硬体产品才有卖点,日本在此却是处于弱势,台湾企业应该放弃追求营收成长,改做有专精性的产品,才能把饼
联电荣誉董事长曹兴诚说,台湾近期一直谈台日企业联盟,但科技界发展的趋势已经改变,具有创意、设计与服务的硬体产品才有卖点,日本在此却是处于弱势,台湾企业应该放弃追求营收成长,改做有专精性的产品,才能把饼
联电矽穿孔(TSV)制程将于2013年出炉。为争食2.5D/三维晶片(3D IC)商机大饼,联电加紧研发逻辑与记忆体晶片立体堆叠技术,将采Via-Middle方式,在晶圆完成后旋即穿孔,再交由封测厂依Wide I/O、混合记忆体立方体(HMC)
联电矽穿孔(TSV)制程将于2013年出炉。为争食2.5D/三维晶片(3D IC)商机大饼,联电加紧研发逻辑与记忆体晶片立体堆叠技术,将采Via-Middle方式,在晶圆完成后旋即穿孔,再交由封测厂依Wide I/O、混合记忆体立方体(HMC)
联电矽穿孔(TSV)制程将于2013年出炉。为争食2.5D/三维晶片(3DIC)商机大饼,联电加紧研发逻辑与记忆体晶片立体堆叠技术,将采Via-Middle方式,在晶圆完成后旋即穿孔,再交由封测厂依WideI/O、混合记忆体立方体(HMC)等
联电矽穿孔(TSV)制程将于2013年出炉。为争食2.5D/三维晶片(3DIC)商机大饼,联电加紧研发逻辑与记忆体晶片立体堆叠技术,将采Via-Middle方式,在晶圆完成后旋即穿孔,再交由封测厂依WideI/O、混合记忆体立方体(HMC)等
联电6日宣布与意法半导体合作65nm CMOS影像感测器背面照度BSI技术。事实上,双方先前已顺利于联电新加坡Fab 12i厂产出意法半导体的前面照度式FSI制程,奠基于之前的成功经验,此次合作将更进一步扩展两家公司的伙伴关
联电6日宣布与意法半导体合作65nm CMOS影像感测器背面照度BSI技术。事实上,双方先前已顺利于联电新加坡Fab 12i厂产出意法半导体的前面照度式FSI制程,奠基于之前的成功经验,此次合作将更进一步扩展两家公司的伙伴关
联电(2303-TW)(UMC-US)于SEMICON台湾展会期间发表3D IC 技术趋势与进展。联电企业行销总监黄克勤表示,联电克服开发初期制程问题,今年年底3D IC将进行产品级封装与测试。他说明了联电在3D IC方面的最新进展。联电3D
联电矽穿孔(TSV)制程将于2013年出炉。为争食2.5D/三维晶片(3D IC)商机大饼,联电加紧研发逻辑与记忆体晶片立体堆叠技术,将采Via-Middle方式,在晶圆完成后旋即穿孔,再交由封测厂依Wide I/O、混合记忆体立方体(HMC)
联电(2303)公布8月营收,微幅月增1.93%、来到97.99亿元,年增19.49%,创下近20个月以来新高。而联电目前第3季累积营收已达194.12亿元,也已达第2季营收的7成。野村(NOMURA)即出具最新报告指出,联电第3季财测达阵的机
联电 (2303)公布8月营收,微幅月增1.93%、来到97.99亿元,年增19.49%,创下近20个月以来新高。而联电目前第3季累积营收已达194.12亿元,也已达第2季营收的7成。野村( NOMURA )即出具最新报告指出,联电第3季财测达阵
半导体景气转缓,但晶圆代工厂联电(2303)在通讯应用的急单帮助下,昨(7 )日公布8月营收来到97.98亿元,不但是今年连续第6个月成长,也创下近20个月来新高。 据了解,半导体景气下半年趋缓,客户下单前置作业期
联电(2303-TW)(UMC-US)今(7)日公告8月自结营收97.99亿元,来到近20个月高点位阶,并为今年连续6个月的成长;月增1.93 %,续逼进100亿元,并较去年同期增19.49%。 联电第2季营收为276.1亿元、业绩已呈现逐月攀高走势
联电 (2303)公布8月营收,微幅月增1.93%来到97.99亿元,年增19.49%,创下近20个月以来新高。而联电目前7月及8月合计营收194.12亿元,已达第2季营收的7成,可望达成先前联电执行长孙世伟于法说会上所提出,第3季受益于
联电 (2303)于今(6日)宣布,与意法半导体合作65 奈米 CMOS影像感测器背面照度BSI技术。事实上,双方先前已顺利于联电新加坡Fab 12i厂产出意法半导体的前面照度式FSI制程,奠基于之前的成功经验,此次合作将更进一步扩
记者杨伶雯/台北报导 联电6日宣布与意法半导体合作65奈米CMOS影像感测器背面照度BSI技术。双方先前已顺利在联电新加坡Fab 12i厂产出意法半导体的前面照度式FSI制程,这次合作将更进一步扩展两家公司的夥伴关系。
联电(2303-TW)(UMC-US)今(6)日宣布,与意法半导体合作65奈米CMOS影像感测器背面照度BSI技术。双方先前已顺利于联电新加坡Fab 12i厂产出意法半导体的前面照度式FSI制程,奠基于之前的成功经验,此次合作将更进一步扩展