在系统成本不增加的前提下,让家电变得更加静音和高效,是设计工程师们关注的重点。而GaN器件凭借着更高的开关频率和更好的能效表现,开始逐渐进入家电设计者的视野。
碳化硅和氮化镓开关器件是电源电路中的主要元件。虽然这些器件在运行速度、高电压、处理电流和低功耗等固有特性方面表现出更高的性能,但设计人员往往只关注这些器件,而经常忽略相关的驱动器。
650V 智能电源模块 (IPM)集成了德州仪器的氮化镓 (GaN) 技术,助力家电和暖通空调(HVAC)系统逆变器达到99%以上效率。 得益于 IPM 的高集成度和高效率,省去了对外部散热器的需求,工程师可以将解决方案尺寸...
· 650V 智能电源模块 (IPM)集成了德州仪器的氮化镓 (GaN) 技术,助力家电和暖通空调(HVAC)系统逆变器达到99%以上效率。 · 得益于 IPM 的高集成度和高效率,省去了对外部散热器的需求,工程师可以将解决方案尺寸缩减多达 55%。
功率半导体领域已有很多年未发生系统性技术变革,目前热门的宽禁带(WBG)功率器件已经开始占据自己所“擅长”的市场领域——氮化镓(GaN)功率器件应用从快充起步已获得显著的商业化进展,EV的逆变器则率先采用了碳化硅(SiC)。
消费者希望日常携带的各种电子设备能够配备便携、快速和高效的充电器。随着大多数电子产品转向 USB Type-C® 充电器,越来越多的用户希望可以使用紧凑型电源适配器为所有设备充电。
评估套件具有 Qorvo 的高性能无刷直流/永磁同步电机控制器/驱动器和 CGD 易于使用的 ICeGaN GaN 功率 IC 的性能
英飞凌位列2023全球半导体供应商第九,稳居全球功率和汽车半导体之首。2023年英飞凌汽车MCU销售额较上年增长近44%,约占全球市场的29%,首次拿下全球汽车MCU市场份额第1。
新封装提供了更高的功率输出、便于光学检查、节省了系统成本,并提高了可靠性
为电动汽车、电动工具、笔记本电脑和手机应用开发功率密度超过30 W/in3的140-240 W USB-PD适配器
功率密度是电源设计的永恒话题,而随着近年来各类创新应用对于功率等级的提高,要在同样甚至更小的体积中达成同样的供电需求,就势必要把功率密度推向更高的纬度。而追求电源设计功率密度的提升,最根本的是要从器件层面入手。对于电源芯片而言,提升功率密度绝非易事。在提升的同时,就会面对着来自散热、EMI等因素带来的反制。功率密度的提升绝非提高电压电流那么简单,而是需要来自芯片前道的材料、工艺、电路设计和来自后道封装的多方面配合。那么如何克服一系列的挑战,将电源芯片的功率密度卷出新高度?TI于近日发布的100V GaN驱动芯片LMG21/3100和隔离DC/DC UCC33420-Q1,我们可以从中找到答案。
业内消息,近日新加坡 RF GaN(射频氮化镓)芯片供应商 Gallium Semiconductor(加联赛半导体)突然终止业务并解雇所有员工,包括位于荷兰奈梅亨的研发中心。
如何把握住2024年的行业新机遇,实现技术突破创新,赋能各类新兴应用的发展?新一年伊始,我们采访到了英飞凌科技全球高级副总裁暨大中华区总裁、英飞凌电源与传感系统事业部大中华区负责人潘大伟,他和我们分享了英飞凌这一年来的成绩,以及对于明年的市场趋势展望。
增强瑞萨宽禁带专业知识和产品路线图发展,以应对电动汽车、数据中心、人工智能电源,以及可再生能源快速增长的市场机遇。
大联大诠鼎基于Innoscience InnoGaN器件-INN650TA030AH、INN650TA070AH和INN650D080BS芯片推出2KW PSU服务器电源方案,旨在利用先进的GaN器件助力服务器电源实现更出色的能效。
从电流感应、磁传感器和电源的结合,Allegro Microsystems在汽车和工业市场赢得了成功。而今通过对于Power-Thur技术的隔离栅极驱动器的成功发布,Allegro继续扩大优势,强势布局宽禁带器件功率市场,为客户应用带来更好的选择。
21ic 近日获悉,意法半导体(ST)和法国空客公司将联合研发功率半导体,双方表示开发的新型电力电子设备更高效,将用于混合动力飞机和全电动城市飞行器。
对于ST而言,芯片设计和制造同样重要。ST在制造上的战略规划正在逐步实施,将会帮助其实现200亿美元营收和2027碳中和两大目标。
从 EPC 的角度来看,我们将通过我们的 GaN 器件推出全新一代技术。所以那将是一个令人兴奋的发布。我们显然也期待与我们在汽车行业以及最近真正起飞的太阳能行业的合作伙伴公司讨论我们在 GaN 方面的所有新技术。因此,电源解决方案的设计人员面临挑战,并且越来越多地转向所谓的宽带隙技术来克服硅的局限性。其中之一是 GaN,您非常了解它。所以正如你在一篇文章中所说,GaN技术有一个硅无法比拟的优势。这就是将功率器件与信号和数字器件集成的能力。那么你在哪里押注 GaN,为什么?
垂直结构通常被认为有利于高电压、高功率器件,因为它便于电流扩散和热管理,并允许在不增大芯片尺寸的情况下实现高电压几乎所有商用的MV/HV Si和SiC功率器件都是基于垂直结构此外,与GaN-on-Si外延相比,GaN-on-GaN同质外延层具有更低的位错密度,(VON)是由GaN的大能带隙引起的。先进的sbd是非常可取的,因为它们结合了肖特基样正向特性(具有低VON)和pn样反向特性(峰值电场从表面移到半导体中)。