新思科技(Synopsys)宣布,新思科技的Laker客制化设计解决方案,通过台积电16奈米FinFET制程设计规则手册(Design Rule Manual, DRM)第0.5版认证,同时,也将纳入台积电16nm可相互操作制程设计套件(interoperable pro
全球晶片设计及电子系统软体暨IP领导厂商新思科技(Synopsys)宣布,新思科技的Laker客制化设计解决方案,通过台积电(2330)16奈米FinFET制程设计规则手册(Design Rule Manual, DRM)第0.5版认证,同时,也将纳入台积电
全球晶片设计及电子系统软体暨IP领导厂商新思科技(Synopsys)宣布,新思科技的Laker客制化设计解决方案,通过台积电(2330)16奈米FinFET制程设计规则手册(Design Rule Manual, DRM)第0.5版认证,同时,也将纳入台积电
台积电从20nm级开始只采用一种工艺。在20nm以前的级别中,会根据用途准备多种工艺,比如,28nm就有“HP”、“HPM”、“HPL”以及“LP”工艺。而20nm只有“20SOC”一种工艺。据介绍,20SOC是在28nm工艺中备受好评的、
业界传出,受英特尔先进制程进度不如预期影响,今年初「变心」转单英特尔的台积电老客户阿尔特拉(Altera),近期回头找台积电支持,使得台积电先进制程面临「爆单」,最快明年第2季展现业绩强劲爆发力。 随着大客
台积电从20nm级开始只采用一种工艺。在20nm以前的级别中,会根据用途准备多种工艺,比如,28nm就有“HP”、“HPM”、“HPL”以及“LP”工艺。而20nm只有“20SOC”一种工艺。据介绍,20SOC是在28nm工艺中备受好评的、
比利时微电子研究中心(IMEC)宣称开发出全球首款在300mm晶圆上整合III-V族与矽晶材料的3D FinFET 化合物半导体。IMEC的新制程目标是希望能持续微缩CMOS 至7nm 及其以下,以及实现混合CMOS-RF 与CMOS 光电元件的化合物
比利时微电子研究中心(IMEC)宣称开发出全球首款在300mm晶圆上整合III-V族与矽晶材料的3DFinFET化合物半导体。IMEC的新制程目标是希望能持续微缩CMOS至7nm及其以下,以及实现混合CMOS-RF与CMOS光电元件的化合物。随着
比利时微电子研究中心(IMEC)宣称开发出全球首款在300mm晶圆上整合III-V族与矽晶材料的3D FinFET 化合物半导体。IMEC的新制程目标是希望能持续微缩CMOS 至7nm 及其以下,以及实现混合CMOS-RF 与CMOS 光电元件的化合物
讯:比利时微电子研究中心(IMEC)宣称开发出全球首款在300mm晶圆上整合III-V族与矽晶材料的3D FinFET 化合物半导体。IMEC的新制程目标是希望能持续微缩CMOS 至7nm 及其以下,以及实现混合CMOS-RF 与CMOS 光电元件的化
比利时微电子研究中心(IMEC)宣称开发出全球首款在300mm晶圆上整合III-V族与矽晶材料的3D FinFET 化合物半导体。IMEC的新制程目标是希望能持续微缩 CMOS 至 7nm 及其以下,以及实现混合 CMOS-RF 与 CMOS 光电元件的化
硅半导体工艺的极限在哪里?至少短期内,各大厂商都还在发力冲刺。除了即将量产的20nm、16nm、14nm,更遥远的10nm也早早被列上了议事日程。三星的下一步是14nm FinFET(立体晶体管),去年底就已经取得重大突破,完成了
硅半导体工艺的极限在哪里?至少短期内,各大厂商都还在发力冲刺。除了即将量产的20nm、16nm、14nm,更遥远的10nm也早早被列上了议事日程。三星的下一步是14nm FinFET(立体晶体管),去年底就已经取得重大突破,完成了
硅半导体工艺的极限在哪里?至少短期内,各大厂商都还在发力冲刺。除了即将量产的20nm、16nm、14nm,更遥远的10nm也早早被列上了议事日程。三星的下一步是14nm FinFET(立体晶体管),去年底就已经取得重大突破,
讯:台积电将在2014年初批量投产20nm工艺,并已完成多款产品的流片,而一年之后就会再量产16nm FinFET。今日台积电又首次向公众展示了这两代工艺下的最新晶圆。这是20nm SoC工艺的晶圆。我们知道,台积电的20n
台积电将在2014年初批量投产20nm工艺,并已完成多款产品的流片,而一年之后就会再量产16nm FinFET。今日台积电又首次向公众展示了这两代工艺下的最新晶圆。这是20nm SoC工艺的晶圆。我们知道,台积电的20nm分为两种版
Imec Demonstrates World’s First III-V FinFET Devices Monolithically Integrated on 300mm Silicon Wafers Technology Achievement Marks Significant Step Towards Monolithic Heterogeneous Integration an
摩尔定律遇到瓶颈、先进工艺投资如同“无底洞”,代工厂在先进工艺的巨大投入与回报之间如何取舍,在性能、成本、尺寸之间如何权衡,选择哪一种道路持续精进,或许未来的格局就在今时的选择埋下伏笔。大陆
FD SOI(全耗尽型SOI)最近重新进入业界关注的焦点。Intel、TSMC等企业已决定在22、14nm节点走向FinFET之路;而作为FD SOI技术的主要支持者,如IBM、STMicroelectronics、GlobalFoundries等,认为在先进节点上FD SOI
网通晶片大厂博通(Broadcom)宣布,推出次世代多核心处理器,採用业界最高效能64位元ARM核心,并将採先进的16奈米FinFET製程生产。博通指出,是利用ARMv8-A架构授权,开发出此款创新的CPU处理器,为网路功能虚拟化(Ne