JSR株式会社(JSR Corporation)今天宣布加速与SK hynix Inc.的合作开发进程,以便将JSR旗下公司Inpria的极紫外光刻(EUV)金属氧化物抗蚀剂(MOR)应用于制造先进的DRAM芯片。Inpria拥有广泛专利的EUV金属氧化物光刻胶平台使客户能够高效地对先进节点设备架构进行制版。
为了遏制中国的发展,美国近年来对华采取一系列的干预和打压措施已经屡见不鲜,在高新科技领域的技术封锁/贸易封锁更是美国的惯用伎俩,半导体就是这样的一个领域。据近日报道,美国为了全面遏制中国的半导体业发展,已经向荷兰政府施压,要求荷兰光刻机公司阿斯麦(ASML)扩大对华的禁售范围,在禁止向中国出售最先进的极紫外线光刻机(EUV)基础上,进一步将禁售范围扩大到上一代技术深紫外线光刻机(DUV)的出口。
这些年,手机芯片成为领跑先进制程的代表,当前,高通骁龙、联发科天玑等均已进入4nm,年内甚至有望迎来首颗3nm手机处理器。
据外媒消息,三星电子副会长李在镕有望在本周到访荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML),媒体认为他此行是为了抢购EUV光刻机。 据悉,李在镕的荷兰商务旅行将从6月7日开始,一直持续到6月18日。
极紫外线光刻机是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆,只能用EUV光刻机生产。
5月23日消息,据报道,近日日本光刻胶巨头JSR的首席执行官埃里克约翰逊(Eric Johnson)在接受采访时表示,尽管中国在努力推动芯片的自给自足,但中国半导体产业必要的基础设施不足,比如很难掌握基于极紫外(EUV)光刻的复杂芯片制造技术,发展先进制程的芯片制造技术将非常困难。
数据显示,公司一季度净收入35亿欧元,毛利率49%,净利润6.95亿欧元,新增净订单额70亿欧元,其中来自0.33NA+0.55NA EUV光刻机的量达到25亿欧元。
2022 年 4 月 21 日,加利福尼亚州圣克拉拉市——应用材料公司推出了旨在帮助客户利用极紫外光(EUV)继续推进二维微缩的多项创新技术,并详细介绍了业内最广泛的下一代三维环绕栅极晶体管制造技术的产品组合。
日前,三星悄然公布了一款新手机处理器,并已经搭载在Galaxy A33/A53/M53等中端产品上。
极紫外线光刻机是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆,只能用EUV光刻机生产。
光刻机是半导体制造中的核心设备之一,EUV光刻机全球也只有ASML公司能够研发、生产,但它的技术限制也很多,俄罗斯计划开发全新的EUV光刻机,使用的是X射线技术,不需要光掩模就能生产芯片。
考虑到 EUV 光刻机的产能有限,因此各大晶圆厂商都希望能够第一时间入手最新一代的光刻机,从而提升自家晶圆的产能,英特尔也正不断地采购 EUV 光刻机,以满足先进制程晶圆的制造。
这一年多来,全球半导体产能紧张,台积电等芯片制造公司也在积极扩大产能,光刻机之类的设备很抢手,在这个关键时刻,全球光刻机一哥ASML的工厂发生火灾,目前损失还在评估中。
这几年中,台积电一跃成为半导体制造行业的大哥,不仅是全球晶圆代工的绝对主力,而且先进工艺也超越了Intel、三星等对手,更是首发了EUV光刻工艺,明年还要量产3nm工艺。
受市场缺芯影响,不少半导体产业链企业都上调了业绩预期,ASML公司便是其中之一。在10月3号举办的在线投资者活动中,ASML表示, 2025年公司总营收预计会在240亿欧元到300亿欧元之间。
三星和台积电已经开始接受5nm的订单,今年的风险试产和明年的批量生产。我们预计两家公司将在5纳米采用更多的EUV层,三星为12层,台积电为14层。
伴随着芯片危机和科技制裁等热议话题的出现,光刻机尤其是极紫外和深紫外EUV光刻机不可避免的成为时下科技界议论与发展的对象。
ASML大家都不陌生,它是全球最顶尖的光刻机巨头,旗下的EUV光刻机更是目前最先进的半导体设备之一,可用于生产7nm和5nm芯片。之前,国内一直都想要从ASM那里进口一台EUV光刻机,但却始终买不到,这也导致国人对ASML这家公司的态度并不是很好。
近日,ASML方面传出消息,新一代极紫外光刻机(EUV)已研发完成,现阶段正在进行最后一部分的安装工作。
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