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沉浸式光刻制约EUV的推出
【导读】使用193nm光刻的半导体发展路线图已经走到尽头，下一代将必定采用157nm光。TI公司前端处理部经理Jim Blatchford刚刚完成一种前沿157nm光刻系统的谈判，但他对这种尚未验证的技术仍然有点担心，因此他想去负责
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ASML看淡订单展望 调降上半年财测
欧洲最大半导体设备供应商艾司摩尔（ASML）16日说，第1季净利增加一倍多，但认为未来两季订单可能只会小幅成长，因而调降上半年财测，反映部分客户的需求减少。艾司摩尔股价应声重挫。艾司摩尔总部在荷兰，是半导体产
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台湾家登精密切入LED蓝宝石市场 推出8寸晶舟产品
LED半导体照明网讯 半导体设备厂家登精密今年除了持续看好8寸及12寸晶圆盒及极紫外光光罩盒（EUV Pod）出货，也顺利切入LED蓝宝石市场，顺利推出8寸金属制晶舟产品已获国外大厂订单。家登表示，受惠於大客户
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半导体设备厂ASML调降H1营收预估 称逻辑客户需求下滑
欧洲最大半导体设备商艾斯摩尔（ASMLHoldingNV）（ASML-NL）（ASML-US）周三（16日）公布财报，虽然第一季净利倍增，但却调降上半年预估，因部分客户订单需求已开始下滑。消息一出，在荷兰挂牌的ASML周三开盘股价随即
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客户需求下滑 艾斯摩尔调降H1营收预估
欧洲最大半导体设备商艾斯摩尔(ASML )周三(16日)公布财报，虽然第一季净利倍增，但却调降上半年预估，因部分客户订单需求已开始下滑。今年第一季ASML净利从去年同期的9600 万欧元，大幅跃进至2.49 亿欧元(3.44 亿美元
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蓝宝石晶舟出货，家登很吃香
半导体设备厂家登精密（3680）今年除了持续看好8寸及12寸晶圆盒及极紫外光光罩盒（EUV Pod）出货，也顺利切入LED蓝宝石市场，顺利推出8寸金属制晶舟产品已获国外大厂订单。家登表示，受惠于大客户的设备材料在地化策
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18吋晶圆与EUV微影难度高半导体制程面临挑战
根据Extremetech网站报导，极紫外光(EUV)微影技术仍待克服，以及18吋晶圆计画目前仍充满变数，种种消息对半导体产业而言，已出现技术亟待突破的关键期。2012年，台积电、英特尔(Intel)与三星电子(Samsung Electronic
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张忠谋：摩尔定律将死亡只剩5~6年苟延残喘
英特尔(Intel)在上周GSA年会中重申，半导体产业的摩尔定律可一路做到10纳米制程，但台积电董事长张忠谋27日出席台湾半导体产业协会(TSIA)年会时，当众打枪表示，摩尔定律差不多要死亡，大概苟延残喘5~6年，10纳米不需
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张忠谋：摩尔定律将死亡只剩5~6年苟延残喘
英特尔(Intel)在上周GSA年会中重申，半导体产业的摩尔定律可一路做到10纳米制程，但台积电董事长张忠谋27日出席台湾半导体产业协会(TSIA)年会时，当众打枪表示，摩尔定律差不多要死亡，大概苟延残喘5~6年，10纳米不需
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张忠谋：摩尔定律只剩5~6年苟延残喘
英特尔（Intel）在上周GSA年会中重申，半导体产业的摩尔定律可一路做到10纳米制程，但台积电董事长张忠谋27日出席台湾半导体产业协会（TSIA）年会时，当众表示，摩尔定律差不多要死亡，大概苟延残喘5~6年，10纳
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EUV遭受新挫折 半导体10nm工艺步伐蹉跎
ASML的量产型EUV光刻机在TSMC现场初试时出现失误。在2014年加州SanJose举行的先进光刻技术会议上TSMC演讲中透露此消息,由于EUV光源内的激光机械部分出现异位导致光源破裂。因此EUV光刻机停摆。TSMC的下一代光刻部经理
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EUV遭受新挫折 半导体10nm工艺步伐蹉跎
ASML的量产型EUV光刻机在TSMC现场初试时出现失误。在2014年加州SanJose举行的先进光刻技术会议上TSMC演讲中透露此消息，由于EUV光源内的激光机械部分出现异位导致光源破裂。因此EUV光刻机停摆。TSMC的下一代光刻部经
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未来半导体业不确定性引发的思考
2014及未来全球半导体业的态势会怎么样?答案肯定是好坏均占。有乐观派如ICInsight公司,认为2013年全球集成电路产业已度过最低增长的困难的5年周期,并开始下一轮周期的上升，这是一个好消息。在2007年至2012年期间，全
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未来半导体业不确定性引发的思考
2014及未来全球半导体业的态势会怎么样?答案肯定是好坏均占。有乐观派如ICInsight公司,认为2013年全球集成电路产业已度过最低增长的困难的5年周期,并开始下一轮周期的上升，这是一个好消息。在2007年至2012年期间，全
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未来全球半导体业的不确定性引发的思考
2014及未来全球半导体业的态势会怎么样?答案肯定是好坏均占。有乐观派如IC Insight公司, 认为2013年全球集成电路产业已度过最低增长的困难的5年周期,并开始下一轮周期的上升，这是一个好消息。在2007年至2012年期间，
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ASML估Q1营收未达标
欧洲最大半导体设备供应商艾司摩尔控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)预估第1季营收低于预期，并表示获利能力将受到下一代极紫外光(EUV)系统订单的箝制。艾司摩尔今天在声明稿中指出，预期2014年前3个月销售净额约14
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受EUV光刻技术推动 芯片突破摩尔定律
【导读】在近50年的科技发展中，技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑声中，英特尔坚定不移地延续着摩尔定律的魔力。 在近50年的科技发展中，技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑
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三星正在研究10nm工艺 同时初步尝试EUV技术
硅半导体工艺的极限在哪里？至少短期内，各大厂商都还在发力冲刺。除了即将量产的20nm、16nm、14nm，更遥远的10nm也早早被列上了议事日程。三星的下一步是14nm FinFET(立体晶体管)，去年底就已经取得重大突破，
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EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律
据美国科技博客Business Insider报道，在近50年的科技发展中，技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑声中，英特尔坚定不移地延续着摩尔定律的魔力。摩尔定律是由英特尔联合创始人GordonMoore提出，内容
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EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律
据美国科技博客Business Insider报道，在近50年的科技发展中，技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑声中，英特尔坚定不移地延续着摩尔定律的魔力。摩尔定律是由英特尔联合创始人GordonMoore提出，内容
