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麻理将电子束光刻可刻制最小图像尺寸降至9nm
麻省理工学院的研究人员表示，他们已经研制出了一种可以刻制尺寸为9nm图像的电子束光刻技术，而此前电子束光刻技术所能刻制的图像尺寸极限则为25nm左右.有关这次研究的详细内容将发表在下一期的《微电子工程》（ Mic
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光源供应商看好EUV导入量产时程
尽管紫外光微影(EUV)的一再延迟，已让人对于它的实际商用时程产生疑问，但 EUV 光源供应商 Cymer 表示，随着可提高晶圆产出的新一代光源技术日渐成熟，预估最快在14nm节点， EUV 将可望导入晶圆的量产中。Cymer迄今已
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光源问题仍是EUV光刻技术中的难题
GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光源技术方面取得了一定成效，但光源问题仍是EUV光 刻技术成熟过程中最“忐忑”的因素。
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GlobalFoundries光刻专家谈EUV最新进展
GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光源技术方面取得了一定成效，但光源问题仍是EUV光刻技术成熟过程中最“忐忑”的因素。O
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台积电将加入日本主导的国际半导体工艺研发联盟
日本 Renesas Electronics(瑞萨电子) 和台积电，将加入一个由日本主导、从事新世代芯片制程技术开发的国际联盟。该联盟预计这个月开始研发 EUV (超紫外光) 微影技术，目标在 2015 年底前结束。企业成员将运用这项技术
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台积电将加入国际半导体工艺研发联盟
《日本经济新闻》日前报导，日本 Renesas Electronics(瑞萨电子) 和台积电，将加入一个由日本主导、从事新世代芯片制程技术开发的国际联盟。该联盟预计这个月开始研发 EUV (超紫外光) 微影技术，目标在 2015 年底前结
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台积电 加入EIDEC联盟
台积电(2330)及日本IDM厂客户瑞萨电子（Renesas）决定加入由日本半导体业联合出资成立的EUVL基盘开发中心（EIDEC），与英特尔、三星、信越化学、旭硝子等国际级半导体厂合作，共同投入次世代极紫外光（EUV）微影技术
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半导体三王联手日经：台积电将加入国际制程研发联盟
传台积电将加入国际制程研发联盟《日本经济新闻》周五报导，日本RenesasElectronics(6723-JP)(瑞萨电子)和台积电(2330-TW)，将加入一个由日本主导、从事新世代晶片制程技术开发的国际联盟。该联盟预计这个月开始研发
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半导体三王联手日经：台积电将加入国际制程研发联盟
传台积电将加入国际制程研发联盟 《日本经济新闻》周五报导，日本Renesas Electronics(6723-JP)(瑞萨电子) 和台积电(2330-TW)，将加入一个由日本主导、从事新世代晶片制程技术开发的国际联盟。 该联盟预计
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SEMI研究报告称2012年全球光刻掩膜板市场预计可达32亿美元的规模
SEMI研究报告最新研究报告显示，2010年全球半导体光刻掩膜板市场达到了30亿元规模，预估2012年这一数字可达32亿美元。由于有2008和2009连续两年的签约保障下，半导体光刻掩膜板市场在2010年增长了10%，而未来两年光刻
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ASML单价近一亿美元的EUV光刻机订单已达10台 预计2012年开始正式交货
2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货；不过，
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ASML单价近一亿美元的EUV光刻机订单已达10台 预计2012年开始正式交货
2010年浸润式微米光刻机台设备(ImmersionScanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货；不过，对
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ASML单价近一亿美元EUV光刻机订单已达10台
2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货，形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险，随着缺货问题解决，ASML针对20纳米工艺，推出深紫外光(EUV)机台，目前已有10台订单在手，预计2012年将正式交货;不过，对
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2012年光刻掩膜板市场预计可达32亿美元
SEMI研究报告最新研究报告显示，2010年全球半导体光刻掩膜板市场达到了30亿元规模，预估2012年这一数字可达32亿美元。由于有2008和2009连续两年的签约保障下，半导体光刻掩膜板市场在2010年增长了10%，而未来两年光刻
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台积电加入SEMATECH组织
晶圆代工龙头台积电（2330）昨（11）日宣布，为了加速半导体技术研发，决定加入美国半导体制造技术产业联盟SEMATECH组织，并成为核心成员之一。台积电希望藉由加入SEMATECH，与成员合作开发20纳米以下先进制程，包括
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EUV光源厂商散伙 EUV未来充满变数
日本的Komatsu和Ushio稍早前宣布，已终止有关光源合资企业Gigaphoton的合作协议。Komatsu将从Ushio手中买下50%股权。未来Gigaphoton将成为Komatsu的全资子公司。而此举会为EUV的未来投下何种变数仍有待观察。成立于2
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EUV光源厂商散伙
日本的Komatsu和Ushio稍早前宣布，已终止有关光源合资企业Gigaphoton的合作协议。Komatsu将从Ushio手中买下50%股权。未来Gigaphoton将成为Komatsu的全资子公司。而此举会为EUV的未来投下何种变数仍有待观察。成立于2
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EUV光源厂商散伙，EUV未来充满变数
日本的Komatsu和Ushio稍早前宣布，已终止有关光源合资企业Gigaphoton的合作协议。Komatsu将从Ushio手中买下50%股权。未来Gigaphoton将成为Komatsu的全资子公司。而此举会为EUV的未来投下何种变数仍有待观察。成立于2
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EUV光源厂商Ushio从Gigaphoton撤资
日本小松公司(Komatsu)与Ushio公司近日决定终止两家公司有关EUV光刻机光源合资厂商Gigaphoton项目的合资合同。小松将从Ushio公司手中收购Gigaphoton余下的50%股份，这样Gigaphoton将成为小松的独资公司。Gigaphoton原
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Komatsu、Ushio拆夥 影响EUV光源开发？
日本的 Komatsu 和 Ushio 稍早前宣布，已终止有关光源合资企业 Gigaphoton 的合作协议。 Komatsu 将从 Ushio 手中买下50%股权。未来 Gigaphoton 将成为 Komatsu 的全资子公司。而此举会为EUV的未来投下何种变数仍有待
