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台积电2016年10nm制程才将采用EUV技术
继英特尔日前宣布，将投资荷兰半导体设备大厂ASML，取得其15%股权后，台积电也于5日正式宣布，将投资8.38亿欧元(相当于台币308亿元)吃下ASML5%的股权，且未来5年将投入2.76亿欧元(相当台币102亿元)，来挹注ASML对18寸
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台积电砸407亿争夺18寸门票
晶圆代工龙头台积电5日宣布加入微影设备大厂荷商艾司摩尔（ASML）的「客户联合投资专案」（CustomerCo-InvestmentProgram），总投资金额高达11.14亿欧元（约新台币407亿元），包括取得ASML的5％股权，并加入极紫外光
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台积入股ASML 回收利益可期
台积电董事长张忠谋昨（7）日表示，入股艾司摩尔（ASML）是自然的决定，也义不容辞，台积电一度是ASML最大客户，ASML的研发表现出色，「未来ASML股价上涨，台积电也会同享其利」。 台积电将斥资 8.38亿欧元取得AS
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台积入股ASML 回收利益可期
台积电董事长张忠谋昨（7）日表示，入股艾司摩尔（ASML）是自然的决定，也义不容辞，台积电一度是ASML最大客户，ASML的研发表现出色，「未来ASML股价上涨，台积电也会同享其利」。 台积电将斥资 8.38亿欧元取得ASML
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外资：台积电2016年10nm制程才将采用EUV技术
继英特尔日前宣布，将投资荷兰半导体设备大厂ASML，取得其15%股权后，台积电(2330)也于5日正式宣布，将投资8.38亿欧元(相当于台币308亿元)吃下ASML 5%的股权，且未来5年将投入2.76亿欧元(相当台币102亿元)，来挹注AS
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张忠谋：资助ASML义不容辞
台积电董事长张忠谋7日表示，台积电加入半导体设备厂艾司摩尔（ASML）客户联合投资专案，资助其研究发展，是「义不容辞」。 至于媒体追问，台积电资本支出暴增是否会损及股东权益？张忠谋指出，台积电对任何财
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外资：台积电2016年10nm制程才将采用EUV技术
继英特尔日前宣布，将投资荷兰半导体设备大厂ASML，取得其15%股权后，台积电 (2330)也于5日正式宣布，将投资8.38亿欧元 (相当于台币308亿元)吃下ASML 5%的股权，且未来5年将投入2.76亿欧元(相当台币102亿元)，来挹注
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台积电投资ASML 张忠谋：资助研究发展义不容辞
台积电(US-TSM)(2330-TW)董事长暨总执行长张忠谋今(7)日表示，台积电加入艾司摩尔(ASML)(ASML-NL)「客户联合投资专案」资助其研究发展，是「义不容辞」。 根据双方协议，台积电将投资ASML8.38亿欧元(约新台币310.64
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台积电投11.14亿欧元入伙ASML
ASMLHoldingNV公司宣布，台积电(TSMC)已加入其客户合作投资创新专案，将投资2.76亿欧元，在未来五年内共同开发超紫外光(EUV)技术和450mm微影工具，并将投入8.38亿欧元取得ASML公司5%股权。ASML与台积公司延续之前193
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SEMI：2013年全球光刻掩膜板市场预计可达33.5亿美元规模
SEMI最新研究报告显示，2011年全球半导体光刻掩膜板市场达到了31.2亿美元规模，预估2013年这一数字可达33.5亿美元。继2010年达到高峰以后，光刻掩膜板市场2011年再次增长了3%，创下历史新高。而未来两年光刻掩膜板市
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SEMI：2013年全球光刻掩膜板市场预计可达33.5亿美元规模
SEMI最新研究报告显示，2011年全球半导体光刻掩膜板市场达到了31.2亿美元规模，预估2013年这一数字可达33.5亿美元。继2010年达到高峰以后，光刻掩膜板市场2011年再次增长了3%，创下历史新高。而未来两年光刻掩膜板市
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台积砸407亿抢18寸门票
晶圆代工龙头台积电昨（5）日宣布加入微影设备大厂荷商艾司摩尔（ASML）的「客户联合投资专案」（Customer Co-Investment Program），总投资金额高达11.14亿欧元（约新台币407亿元），包括取得ASML的5％股权，并加入
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抢下先进制程门票 台积电资金压力不小
台积电宣布入股艾司摩尔（ASML），虽可化解外界忧心先进制程先被英特尔卡位的疑虑，但这次台积电总投资金额逾410亿元，未来还有扩产资金需求，在景气仍混沌下，台积电未来资金调度压力不小。 据了解，台积电一开始对
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台积电加入ASML投资专案
晶圆代工厂台积电今天宣布，加入半导体设备厂艾司摩尔(ASML)客户联合投资专案，盼加速极紫外光(EUV)微影技术与18寸晶圆微影设备开发及量产。 为让关键微影技术发展顺利，且加速进行，荷兰半导体设备厂ASML于7月9日
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SEMI研究报告称2013年全球光刻掩膜板市场可达33.5亿美元规模
SEMI最新研究报告显示，2011年全球半导体光刻掩膜板市场达到了31.2亿美元规模，预估2013年这一数字可达33.5亿美元。继2010年达到高峰以后，光刻掩膜板市场2011年再次增长了3%，创下历史新高。而未来两年光刻掩膜板市
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英特尔公司投资41亿美元促进EUV光刻技术的研发
据英国《自然》杂志网站7月25日（北京时间）报道，芯片制造商英特尔公司表示，将向总部设在荷兰的半导体设备制造商阿斯麦投资41亿美元，其中10亿美元专门用于极紫外线（EUV）光刻技术的研发，新技术有望让晶体管的大
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ASML预计2018开始生产EUV设备
微影设备供应商ASML Holding NV表示，近日向领先的晶片制造商释出股权的计画，是为了筹措450mm 晶圆技术和超紫外光 ( EUV )微影技术的研发资金，该公司预计2018年可开始生产EUV设备。另外， ASML也指出，此次的筹资计
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英特尔与ASML达成协议 加速开发下一代半导体关键制造技术
2012年7月9日，英特尔公司宣布与ASML控股公司签署一系列价值总计33亿欧元（约41亿美元）的协议，以加速450毫米晶圆技术和超紫外线（EUV）光刻技术的开发，力争提前两年实现支持这些技术的光刻设备的产业化应用，从而
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英特尔与ASML达成协议开发下一代半导体关键制造技术
英特尔公司日前宣布与ASML控股公司签署一系列价值总计33亿欧元(约41亿美元)的协议，以加速450毫米晶圆技术和超紫外线(EUV)光刻技术的开发，力争提前两年实现支持这些技术的光刻设备的产业化应用，从而为半导体制造商
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英特尔计划41亿美元投资ASML 加速450毫米晶圆技术研发
英特尔宣布与ASML控股公司签署一系列价值总计33亿欧元（约41亿美元）的协议，以加速450毫米晶圆技术和超紫外线（EUV）光刻技术的开发，力争提前两年实现支持这些技术的光刻设备的产业化应用，从而为半导体制造商大幅
