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迎战三星、英特尔 台积制程飙速
晶圆代工龙头台积电本周四（18日）将召开法说会，上周于美国圣荷西（San Jose）举办的2013年技术论坛中，却意外宣示包括16纳米鳍式场效晶体管（FinFET）、极紫外光（EUV）等新技术研发及投产进度全部往前拉。 业
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半导体群雄卡位先进制程 ASML EUV量产版设备提早出货
随半导体群雄卡位先进制程，全球最大的半导体设备制造公司荷兰艾司摩尔(ASML-US)EUV量产版设备NXE:3300B拟将提早出货，7台销售集中在亚太地区并约在第3季放量。 艾司摩尔预定在台积电(2330-TW)(TSM-US)4月法说会前
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市场抉择极限 14nm制程是半导体业难以跨越的坎？
依照摩尔定律，全球半导体的工艺制程技术平均每两年进入一个新世代。从理性分析来看，业界都认为半导体业迟早会遇到技术上无法克服的物理极限，有人说是10nm，也有人说是7nm甚至是5nm。极限在哪里，最终将由市场做出
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14nm制程是半导体业难以跨越的坎？
业界都认为半导体业迟早会遇到技术上无法克服的物理极限，有人说是10nm，也有人说是7nm甚至是5nm。极限在哪里，最终将由市场做出选择依照摩尔定律，全球半导体的工艺制程技术平均每两年进入一个新世代。从理性分析来
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14nm制程是半导体业难以跨越的坎？
业界都认为半导体业迟早会遇到技术上无法克服的物理极限，有人说是10nm，也有人说是7nm甚至是5nm。极限在哪里，最终将由市场做出选择 依照摩尔定律，全球半导体的工艺制程技术平均每两年进入一个新世代。从理性分
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东芝：10nm以后仅靠ArF液浸多重曝光无法对应
东芝在光刻技术会议“SPIE Advanced Lithography”上发表演讲，介绍了对于拥有半节距10nm以下（sub-10nm half pitch）分辨率的四项光刻技术、主要从尺寸精度的观点对其进行比较的结果（演讲编号：8685-2）。 此次
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Gigaphoton将LPP EUV光源输出端最大等效功率提升至20W级别
Gigaphoton公司18日宣布已经成功将LPP EUV光源产品的输出端等效最大功率推进到了20W水平。该公司达成这个目标所使用的方法是，使用固态预脉冲激光器，100khz频率的CO2激光来轰击锡靶标。采用这种方法，该公司在光
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24小时内与两位科技巨头的偶遇
笔者曾经在24小时之内分别与Facebook CEO扎克伯格(Mark Zuckerberg)，以及一位我称之为“EUV先生(Mr. EUV)”的半导体业界人士短暂相遇；他们在科技产业界所从事的工作领域可说是南辕北辙，但与他们的对谈都让我有一些
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浸润式微影寿命延长EUV恐无出头天？
当193奈米微影技术在半导体制程技术蓝图上已经接近终点，下一代应该是157奈米微影；德州仪器( TI )前段制程部门经理Jim Blatchford虽然才刚完成采购先进157奈米微影系统的协商，他还是有点担心这种未经验证的技术。
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产业专家：14奈米节点是重大考验
2012年度国际电子元件大会( IEDM )于美国时间12月10日在旧金山登场，与会专家表示，半导体制程迈向14奈米节点时，可能无法达到通常每跨一个世代、晶片性能可提升30%的水准，甚至只有一半；但仍会增加大量成本，主要是
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产业专家：14奈米节点是重大考验
2012年度国际电子元件大会( IEDM )于美国时间12月10日在旧金山登场，与会专家表示，半导体制程迈向14奈米节点时，可能无法达到通常每跨一个世代、晶片性能可提升30%的水准，甚至只有一半；但仍会增加大量成本，主要是
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产业专家：14奈米节点是重大考验
2012年度国际电子元件大会(IEDM)于美国时间12月10日在旧金山登场，与会专家表示，半导体制程迈向 14奈米节点时，可能无法达到通常每跨一个世代、晶片性能可提升30%的水准，甚至只有一半；但仍会增加大量成本，主要是
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18寸晶圆 英特尔找上台积电、家登
英特尔技术长Justin Rattner昨（4）日表示，半导体制程持续依循摩尔定律前进，14纳米将在明年按照进度投产，英特尔也将扩大与生产链中相关业者合作，抢先跨入18寸晶圆及极紫外光（EUV）微影等先进技术世代。 根据
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晶片设备制造商ASML斥资25亿美元收购美国Cymer
全球领先晶片(芯片)设备制造商ASML斥资19.5亿欧元(25亿美元)购买美国公司Cymer，以掌控对未来制造更小和更加智能的晶片至关重要的光学技术。这家荷兰公司表示，这宗以现金加股权方式进行的并购交易，将加快超紫外线(
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ASML收购CYMER以加速EUV技术发展
2012年10月17日，半导体产业光刻系统巨头阿斯麦控股（ASML）与光刻光源主供应商西盟半导体（CYMER）联合宣布：通过由阿斯麦通过股票加现金方式收购西盟半导体价值19.5亿欧元的所有流通股。收购西盟半导体的目的是为了
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ASML收购CYMER以加速EUV技术发展
2012年10月17日，半导体产业光刻系统巨头阿斯麦控股（ASML）与光刻光源主供应商西盟半导体（CYMER）联合宣布：通过由阿斯麦通过股票加现金方式收购西盟半导体价值19.5亿欧元的所有流通股。收购西盟半导体的目的是为了
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摩尔定律正因EUV微影技术失去动力
在2012年的国际超紫外光(EUV)微影技术研讨会上，专家们一致认为，过去几十年来一直扮演半导体创新引擎的摩尔定律(MooresLaw)，正由于下一代超紫外光(EUV)微影技术的延迟而失去动力。为了因应14nm以下制程，EUV系统需
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摩尔定律待突破超紫外光(EUV)微影技术延迟障碍
在2012年的国际超紫外光(EUV)微影技术研讨会上，专家们一致认为，过去几十年来一直扮演半导体创新引擎的摩尔定律(Moore"sLaw)，正由于下一代超紫外光(EUV)微影技术的延迟而失去动力。为了因应14nm以下制程，EUV系统需
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摩尔定律等待跨越微影障碍
在2012年的国际超紫外光(EUV)微影技术研讨会上，专家们一致认为，过去几十年来一直扮演半导体创新引擎的摩尔定律(MooresLaw)，正由于下一代超紫外光(EUV)微影技术的延迟而失去动力。为了因应14nm以下制程，EUV系统需
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摩尔定律等待跨越微影障碍
在2012年的国际超紫外光(EUV)微影技术研讨会上，专家们一致认为，过去几十年来一直扮演半导体创新引擎的摩尔定律(Moore"sLaw)，正由于下一代超紫外光(EUV)微影技术的延迟而失去动力。为了因应14nm以下制程，EUV系统需
